QUANTAX Micro-XRF
使SEM具备痕量分析的能力
QUANTAX Micro-XRF系统拥有可以加装在扫 描电镜上的XTrace微型X射线发生源,使扫 面电镜具备了完全的微区XRF分析能力。XTrace 适用于绝大多数的扫描电镜,用户可以拥有 XRF分析的优势,对痕量元素的高灵敏度,可以 得到更多样品内部元素的信息。
用户友好型Micro-XRF系统
全息面分布(Hypermap)可以将完整的谱图 以像素点为单位进行存储。用户可以在测试过程中 或之后的任何时间进行数据分析处理。
样品可以进行微区XRF分析和能谱分析而不 需要改变位置。
分析方法一体化,EDS和微区XRF分析方式都 可以在ESPRIT 2.0软件里面实现。
不会干扰扫描电镜的正常操作,XTrace可以一 直在停留在采集位置。
完全的微区XRF分析
微区分析结果可媲美台式XRF 的结果。
图像拼接可以实现更大区域的面分布。
多种X射线滤波器可供选择,用来抑制衍射峰。
和扫描电镜的自动马达台联动。
允许样品倾斜,实现X射线的zei小束斑尺寸。
技术细节:
配备 XTrace 的 QUANTAX Micro-XRF
SEM 上的 Micro-XRF 分析
X射线的激发深度远远深于电子束的激发深度,而且对于中等元素至重元素范围内的元素,敏感度更是后者的 20 至 50 倍。由于激发原理不同,对于一些元素,检测限可高达 10 ppm。因此,可在SEM中进行微量元素分析。
Functional principle of Micro-XRF analysis
with the XTrace micro-spot X-ray source
XTrace 配备毛细导管光学元件,使低功率微焦点管的 X 射线束聚焦于 Mo Kα 辐射所需的 40 µm 以下的光斑尺寸。焦点可以和 SEM 电子束完美对准,确保对相同的样品位置进行分析。另外,XTrace 的工作距离已设定为约10mm,此设置的优点在于,光学元件在足够远的位置而不会和正常SEM操作相互干扰,不足之处是由于距离过远而不能提供良好的激发强度。可以使用 30 mm2 的探测器,能够产生高达 40 kcps的计数率。
Maps of a chromium Siemens star,
showing the excellent resolution attainable
with XTrace, which can be further
improved by tilting it towards the X-ray
source
XTrace X 射线源管配备一组滤片,旋转滤片到恰当位置可产生需要的激发光谱和压制透明样品上的衍射峰。
为消除样品形貌引起的阴影和伪影,可将样品倾向 X 射线源,使 X射线垂直照射在样品上。这样做的另一个好处是进一步提高空间分辨率,如西门子星图所示。
QUANTAX Micro-XRF 使用 QUANTAX EDS 系统的探测器和信号处理器。QUANTAX EDS 的 XFlash® 探测器可确保卓越的能量分辨率和信号处理电子元件的zei高速度。
这两个系统在一个界面中通过 ESPRIT 2.0 软件控制。点击鼠标即可改变分析方法。还可以整合这两种方法的结果获得zei高的准确性,兼顾EDS对轻元素敏感的优势和XRF对重元素敏感的优势。
本软件通过使用SEM的样品台,可以实现选取分析、线扫和面分布。面分布和线扫描可以将每个像素点的图谱 (HyperMaps) 储存在一起,因此可以在线或离线分析。
XTrace 新型微束斑 X 射线源,使扫描电子显微镜具备Micro-XRF 分析能力。
X射线光管搭配多导毛细管聚焦透镜适用于40μm以下小束斑分析
相比于电子束激发,对重元素的探测灵敏度提高了 20 至 50 倍,可进行痕量元素探测
通过组合电子和 X 射线激发光谱的定量分析结果来提高分析精度
可完全集成至全新的 ESPRIT 2.0 四合一软件中
敢为人先!
QUANTAX Micro-XRF系统拥有可以加装在扫描电镜上的XTrace微型X射线发生源,使扫面电镜具备了完全的微区XRF分析能力。XTrace 适用于绝大多数的扫描电镜,用户可以拥有 XRF分析的优势,对痕量元素的高灵敏度,可以得到更多样品内部元素的信息。
用户友好型Micro-XRF系统
·全息面分布(Hypermap)可以将完整的谱图以像素点为单位进行存储。用户可以在测试过程中或之后的任何时间进行数据分析处理。
·样品可以进行微区XRF分析和能谱分析而不需要改变位置。
·分析方法一体化,EDS和微区XRF分析方式都可以在ESPRIT 2.0软件里面实现。
·不会干扰扫描电镜的正常操作,XTrace可以一直在停留在采集位置。
完全的微区XRF分析
·微区分析结果可媲美台式XRF 的结果。
·图像拼接可以实现更大区域的面分布。
·多种X射线滤波器可供选择,用来抑制衍射峰。
·和扫描电镜的自动马达台联动。
·允许样品倾斜,实现X射线的zei小束斑尺寸。
XTrace 是一款可搭配在任意一台具有倾斜法兰槽SEM上的微焦点X射线源。 利用该设备可使SEM具备完整意义上的微区XRF光谱分析能力。对于中等元素至重元素范围内的元素,其检测限提高了20-50倍。此外,因为X射线的信号激发深度甚于电子束,利用该设备还可以检测更深层次样品的信息。本设备采用了X射线毛细导管技术,利用该技术,即使在非常小的样品区域也能产生很高的荧光强度。X射线毛细导管将X射线源的大部分射线收集,并将其聚焦成直径35微米的一个X射线点。
X射线毛细导管技术使荧光强度得到极大的增强,同时,荧光光谱的背底较低,这些都提高了系统对痕量元素的敏感度。 相较于电子束激发的信号,其检测限可提高20-50倍。而且,因为X射线源激发信号对于高原子序数元素更有效,所以高原子序数元素检测限可提高至10ppm。
用户友好型设计
聚焦于分析任务,而非繁琐的系统设置
利用ESPRIT HyperMap进行面分布分析的同时采集了所有的数据并存储,便于后续的离线分析。
样品可利用EDS系统和micro-XRF系统并行进行分析,而无需任何的样品移动。
两种分析方法无缝整合在同一分析软件 ESPRIT中,切换分析方法只需轻点鼠标。
XTrace 不会干扰任何SEM及EDS操作。
仅需点滴投入,即可获得独立微区荧光光谱仪的强大功能
分析结果可与独立系统媲美。
样品倾斜后可对更大区域进行面分布分析。
提供三个初级滤片以压制衍射峰。
直接利用扫描电镜的样品台,无需其它的样品台装置。
通过扫描电镜样品台的旋转轻松避免谱图中衍射峰的出现。
可倾斜样品以获得zei小束斑直径。
技术规格
参数 | 细节描述 |
样品类型 | 固体,颗粒 |
激发源 | 配备毛细导管的高质量X射线光管 |
激发源参数 | |
靶材 | 标配Rh靶,可选Mo,W靶 |
光管参数 | 50 kV, 600 μA (zei大30 W, depending on X-ray tube) |
束斑直径 | 小于40 μm for Mo K |
毛细导管长度 | 400 mm |
初级滤片 | 3级初级滤片, 标配100 μm Al, 20 μm Ti, 10 μm Ni (可依据客户需求定制其它滤片) |
探测器 | XFlash 硅漂移探测器* |
设备控制 | 无需其它更多的电脑, 推荐使用QUANTAX EDS所配电脑* |
软件 | Bruker ESPRIT |
设备控制功能 | 完全控制光管参数及滤片 |
谱图分析 | XRF谱峰鉴别,背景修正,谱峰面积计算,无标样定量分析,XRF 和 EDS 组合定量分析,镀层分析 |
元素面分布分析 | 超级面分布HyperMap |
结果输出 | 定量分析结果,统计分析,线扫描,元素面分布 |
功率 | 100 - 240 VAC (1P), 50/60 Hz |
尺寸 | 300 mm x 250 mm x 140 mm |
重量 | 11 kg |
质量标准及安全防护 | ISO 9001:2008, CE certified全面的射线保护系统,辐射 < 1 μSV/h |
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