光刻机采用激光将图形刻印在半导体上,但光是电磁波,不同的光线具有不同的波长。
如果需要刻印的图形非常微小,而采用的光线波长较大,则刻不出想要的图形。
就像你不能用拖把(书写痕迹粗大)在田字格本上写毛笔字(笔划细小)。
现在的芯片集成度越来越高,最高端的芯片工艺已经到了2nm级别。
而可见光波长在780nm(红)~400nm(紫)之间,刻不出小于400nm的图形。
紫外线波长在400nm~10nm之间,采用极紫光才可能刻印10nm宽的线条。
现在最高集成度的芯片,都在10nm以下,已经属于X射线范畴了。
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