光刻机移动精度怎么控制

光刻机移动精度要在雕刻的过程中，晶圆需要被快速移动,每次移动10厘米来控制。

这种误差级别相当于眨眼之间端着一盘菜从北京天安门冲到上海外滩，恰好踩到预定的脚印上，菜还保持端平不能洒。

这种方法也叫视频图像处理对准技术，是指在光刻套刻的过程中，掩模图样与硅片基板之间基本上只存在相对旋转和平移，充分利用这一有利条件，结合机器视觉映射技术，利用相机采集掩模图样与硅片基板的对位标记信号。

此种方法看上去虽然与双目显微镜对准有些类似，但是实质其实有所不同，场像处理对准技术是通过CCDS摄像对两个对位标记图像进行采集，滤波，特征提取等处理，最后通过图像处理单元，进行精确定位和匹配参数计算。

光刻对准技术由最初的明场和暗场对准发展到后来的干涉全息或外差干涉全息对准，混合匹配，由粗略到精细对准技术等，对准精度也由原来的微米级提高到纳米级，极大促进了集成电路制造业的发展。

目前的高精度光刻设备主要采用的对准方式，可以分为光栅衍射空间滤波和场像处理对准技术。