手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；
光刻（photolithography）工艺是将掩膜版（光刻版）上的几何图形转移到晶圆表面的光刻胶上。首先光刻胶处理设备把光刻胶旋涂到晶圆表面，再经过分步重复曝光和显影处理之后，在晶圆上形成需要的图形。
通常以一个制程所需要经过掩膜数量来表示这个制程的难易。根据曝光方式不同，光刻可分为接触式、接近式和投影式；根据光刻面数的不同，有单面对准光刻和双面对准光刻；根据光刻胶类型不同，有薄胶光刻和厚胶光刻。而光刻机本身按照应用可以分为几类，用于制造芯片的光刻机，用于封装的光刻机和应用于LED制造领域的投影光刻机。
“正是有了无数个一丝不苟的攻关，才促成了我国首台IC光刻机的问世。”5月10日，华中科技大学（以下简称华科大）“科学家精神进校园”系列活动新闻发布会上，中国工程院院士、华科大教授陈学东在回答《中国科学......
荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）的监事会周四宣布，拟任命现任公司首席商务官和管理委员会成员ChristopheFouquet为下一任总裁兼CEO。该任命需要在明年4月24日召开的年度股东大会上获得批准......
光刻机作为先进封装必要设备之一，芯片算力升级正带来其需求爆发。据外媒周四报道称，芯片制造大厂三星计划进口更多ASML的EUV光刻设备，未来ASML将在五年内提供总共50套设备，总价值可达10万亿韩元（......
据日经新闻报道，佳能计划投资500亿日元提高光刻机产量，将其在日本的半导体制造设备产量翻一番。报道称，佳能将在日本东部栃木县新建一座半导体设备厂，目标将当前产能提高一倍，总投资额超过500亿日元（约3......
近日，清华大学发布双面对准光刻机采购项目，详情如下：项目编号：清设招第2022114号（0873-2201HW3L0236）项目名称：清华大学企业信息双面对准光刻机采购项目预算金额：800.00000......
当前，芯片问题广受关注，而半导体工业皇冠上的明珠——以极紫外（EUV）光刻机为代表的高端光刻机，则是我国集成电路（IC）产业高质量发展必须迈过的“如铁雄关”。如何在短期内加快自主生产高端光刻机的步伐，......
近年来，财政科技投入日渐增高，科研设施与仪器规模持续增长，但高校院所中，却有部分仪器设备利用率并不高。一名高校教授向记者吐槽，其所在学院光刻机就有四五台。如果拉通共享，一台足够。另一边，中小微企业特别......
科技的快速发展，现在已经是一个技术至上的时代，掌握核心技术就相当于在科技领域占据主导地位。因此芯片领域现在是这个时代的重要部分，芯片是电子技术的核心组织。近年来由于美国的打压，我国勉强走上了自主研发芯......
据悉，全球最先进的光刻机厂商ASML正在开发一款新版本的EUV光刻机，研制成功后它将是世界上最先进的芯片制造设备。该光刻机名为HighNA，目前第一台机器正在研发之中，预计摇到2023年才会提供先行体......
全球光刻机龙头阿斯麦将在当地时间周三午后举行投资者日。在事前发布的声明中，公司明确表示对高端光刻机业务前景和“钱”景持续乐观的立场。作为向芯片制造业提供关键生产工具的龙头企业，阿斯麦预期这一轮电子行业......