失败的释放工艺
所谓释放工艺，通常是为了形成MEMS器件中可动的机械部分，通过对连接机械部分到基底的材料进行不完全刻蚀来实现。当释放失败时，重要的是找到大部分释放结构释放成功而锚点没有释放好的区域。
常见的检查方法/设备：
单芯片器件层或结构测试（破坏性测试）（Break-off device layer of a single chip or a test structure）
基于探针的微机械测试
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阳光洒金波，绿意映夏韵。值此盛夏之季，"电镜前沿技术报告会暨北京理化分析测试技术学会电子显微镜专业委员会秘书处新址"揭牌仪式于2024年7月30日在欧波同集团北京总部隆重举行。北京......
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江门市新会区人民医院发布2024年7月份采购计划，总预算超4000万，采购设备总数82台/套，包括光学显微镜、全自动微生物质谱检测系统、全自动血液细胞分析仪等。序号采购项目名称采购需求概况落实政府采购......