（1）柱后衍生反应系统既能够一体化设计，也能够分体设计。
（2）既能够电脑温控设定、记录，也能够单独面板按键控温设定。
（3）先进的半导体制冷技术为柱后衍生冷却系统所采用，高温度的反应液在高精度的温控仪的作用下能够被降低到0-室温，任意可调。
（4）±0.3摄氏度为控温精度。
