| 仪器名称： | 国产溅射台 |
| 仪器编号： | 02011815 |
| 产地： | 中国 |
| 生产厂家： | 中科院微电子中心自制 |
| 型号： | JS-3 |
| 出厂日期： | 200107 |
| 购置日期： | 200210 |
| 所属单位： | 集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺 |
| 放置地点： | 微电子所新所一层微纳平台 |
| 固定电话： | |
| 固定手机： | |
| 固定email： | |
| 联系人： | 魏治乾（010-62781090,19801221361,zhiqianwei@tsinghua.edu.cn） |
| 分类标签： | 集成电路 半导体工艺 微纳加工 磁控溅射 |
| 技术指标： | 金属材料磁控溅射：Al、Cr、Ag、Au、Pt、Cu、Ti、TiW。均匀性在5%~10%之间 |
| 知名用户： | 王喆垚(微电子所)、陈兢(北京大学)、何立平(中科院物理所)、严清峰(化学系)、许军(微电子所)、尤政(精仪系) 朱荣(精仪系)、张志勇(北京大学)、金传洪(浙江大学) |
| 技术团队： | 工艺工程师：魏治乾 设备工程师：韩冰 工艺主管：窦维治 |
| 功能特色： | 本设备为半导体器件中溅射专用设备，主要溅射的金属材料有：Al、Cr、Ag、Au、Pt、Cu、Ti、TiW。它适用于5英寸及以下任意形状的基片，可同时溅射5英寸片4片、或4英寸片6片，或三英寸片9片。溅射均匀性在5%~10%之间。Al的溅射厚度10nm~3um, Au的溅射厚度10nm~500nm；Pt的溅射厚度10nm~500nm；Ti的溅射厚度10nm~500nm；TiW的溅射厚度10nm~500nm；Cu的溅射厚度10nm~1um；本设备使用于各种材质的衬底，形状不限，也可用于剥离工艺的金属材料溅射。 |
样品要求：
多片式，可同时溅射5英寸片4片、或4英寸片6片，或3英寸片9片
预约说明：
实验室的设备采用网上预约的方式、以先约先用为基本原则
取消预约需提前2个小时通过网上取消预约
其他预约使用规则详见技术资料中的《国产溅射台 预约使用规范》。
| 项目名称 | 计价单位 | 费用类别 | 价格 | 备注 |
|---|---|---|---|---|
| 国产溅射台 | 元/小时 | 自主上机机时费 | 400.0 | 溅射Pt、Au等贵金属，收材料费100元/10nm |
| 送样溅射 | 元/小时 | 测试费 | 400.0 |