| 仪器名称： | 全自动磁控溅射系统 |
| 仪器编号： | 12024341 |
| 产地： | 中国 |
| 生产厂家： | 金盛微纳科技有限公司 |
| 型号： | MSP-150B |
| 出厂日期： | 201112 |
| 购置日期： | 201211 |
| 所属单位： | 集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺 |
| 放置地点： | 微电子所新所一层微纳平台 |
| 固定电话： | |
| 固定手机： | |
| 固定email： | |
| 联系人： | 刘建设（,,zhaoting@tsinghua.edu.cn） 窦维治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn） |
| 分类标签： | 微纳加工 半导体工艺 集成电路 磁控溅射 |
| 技术指标： | SiO2薄膜溅射；工艺温度﹤200℃ |
| 知名用户： | 王喆垚(微电子所)、陈兢(北京大学)、何立平(中科院物理所)、严清峰(化学系)、许军(微电子所)、尤政(精仪系) 朱荣(精仪系)、张志勇(北京大学)、金传洪(浙江大学) |
| 技术团队： | 设备工程师：林宏 设备主管：刘建设 项目主管：陈炜 |
| 功能特色： | 可低温（T﹤200℃）溅射SiO2膜，满足平面器件工艺，特别适合正胶剥离的样品。常规溅射SiO2膜温度高，无法满足低温平面工艺要求，此溅射系统溅射SiO2薄膜的平整度、表面粗糙度比常规高温、中温溅射的质量好，均匀性好，能满足低温溅射二氧化硅膜的工艺条件。 |
样品要求：
设备使用硅片尺寸为4英寸以下硅片及小于4英寸以下不规则硅片。
预约说明：
实验室的设备采用网上预约的方式、以先约先用为基本原则
取消预约需提前2个小时通过网上取消预约
| 项目名称 | 计价单位 | 费用类别 | 价格 | 备注 |
|---|---|---|---|---|
| 氧化硅溅射 | 元/小时 | 自主上机机时费 | 350.0 | 1μm以下 |