| 仪器名称： | 去胶设备(等离子光刻) |
| 仪器编号： | 90175600 |
| 产地： | 美国 |
| 生产厂家： | DRYTEK |
| 型号： | MS-5 |
| 出厂日期： | 199002 |
| 购置日期： | 199003 |
| 所属单位： | 集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺 |
| 放置地点： | 微电子所新所一层微纳平台 |
| 固定电话： | |
| 固定手机： | |
| 固定email： | |
| 联系人： | 李希有（010-62784044,13641166426,lxyou@mail.tsinghua.edu.cn） |
| 分类标签： | 集成电路 微纳加工 半导体工艺 刻蚀 等离子 |
| 技术指标： | PLASMA去胶 |
| 知名用户： | 王喆垚、任天令、刘泽文、吴华强、梁仁荣、潘立阳、王敬、许军、邓宁、钱鹤、伍晓明（微电子所） 尤政、朱荣、阮勇（精仪系）、罗毅（电子系）、姚文清（化学系） |
| 技术团队： | 吴华强、伍晓明、刘朋、李希有、仲涛 |
| 功能特色： | 刻蚀方式： PLASMA模式 主要刻蚀介质：正胶、负胶等. 刻蚀尺寸：4英寸及以下及切割片。选择比、均匀性良好。 |
样品要求：
单片式；硅片尺寸：4英寸及以下
预约说明：
实验室的设备采用网上预约的方式、以先约先用为基本原则
取消预约需提前2个小时通过网上取消预约；
| 项目名称 | 计价单位 | 费用类别 | 价格 | 备注 |
|---|---|---|---|---|
| 送样去胶 | 元/小时 | 自主上机机时费 | 300.0 | |
| 送样刻蚀 | 元/小时 | 测试费 | 300.0 |
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