| 仪器名称： | LAB18薄膜沉积系统 |
| 仪器编号： | 12028282 |
| 产地： | 中国 |
| 生产厂家： | Kurt |
| 型号： | KJLC |
| 出厂日期： | 201204 |
| 购置日期： | 201212 |
| 所属单位： | 集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺 |
| 放置地点： | 微电子所新所一层微纳平台 |
| 固定电话： | |
| 固定手机： | |
| 固定email： | |
| 联系人： | 窦维治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn） |
| 分类标签： | 半导体工艺 集成电路 微纳加工 磁控溅射 |
| 技术指标： | 金属及氧化物材料磁控溅射：包括Pt、Ti、Al、Cr、Hf、Ta、Nb、V、Ni、Co、Pd、Al2O3、HfO2、Ta2O5、Nb2O5、NbO2、V2O5、TiN、W等；本底真空：10E-8Torr |
| 知名用户： | 钱鹤研究员，吴华强研究员，伍晓明研究员，王敬研究员，陈炜研究员等。 |
| 技术团队： | 吴华强副教授，伍晓明副教授，窦维治支持工程师，韩冰设备工程师，李志东工艺工程师 |
| 功能特色： | 该设备的特点如下：本底真空可达到10E-8Torr量级；基片温度可以控制在室温~550℃；可对基片进行等离子体清洗；可实现6英寸及以下尺寸的硅片的溅射镀膜；溅射镀膜的粘附性好，片内均匀性能够达到5%以下；可对多种材料进行溅射，目前主要有金属、氧化物和氮化物薄膜，包括Pt、Ti、Al、Cr、Hf、Ta、Nb、V、Ni、Co、Pd、Al2O3、HfO2、Ta2O5、Nb2O5、NbO2、V2O5、TiN、W等 |
样品要求：
尺寸：6英寸及以下碎片；碎片黏贴在6英寸硅片上，可同时溅射多个碎片。
预约说明：
实验室的设备采用网上预约的方式、以先约先用为基本原则
取消预约需提前2个小时通过网上取消预约；
| 项目名称 | 计价单位 | 费用类别 | 价格 | 备注 |
|---|---|---|---|---|
| LAB18溅射 | 元/小时 | 自主上机机时费 | 600.0 | Au、Pt等贵金属增加100元/10nm |
| LAB18送样溅射 | 元/小时 | 测试费 | 600.0 | Au、Pt等贵金属增加100元/10nm |
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