发布时间:2024-05-28 11:34 原文链接: 清洗机共享应用

仪器名称:清洗机
仪器编号:11023084
产地:中国
生产厂家:中联科利
型号:CUC-XS004A-05-10-M-A
出厂日期:200612
购置日期:201111


所属单位:集成电路学院>微纳加工平台>清洗/湿法工艺
放置地点:微电子所新所一层微纳平台
固定电话:
固定手机:
固定email:
联系人:宗莉(010-62784044,13693600842,jtsgzhz@163.com)
窦维治(010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn)
分类标签:微纳加工 集成电路 半导体工艺 清洗
技术指标:

多种清洗功能

知名用户:王喆垚(微电子所)、陈兢(北京大学)、何立平(中科院物理所)、严清峰(化学系)、许军(微电子所)、尤政(精仪系) 朱荣(精仪系)、张志勇(北京大学)、金传洪(浙江大学)
技术团队:

设备工程师:曹秉军

工艺工程师:宗莉

设备主管:刘朋

工艺主管:伍晓明

实验室主任:吴华强

功能特色:

本清洗机可使用多种清洗液,具有温度控制功能,清除硅片表面的微粒、有机物及无机物等杂质。还可以用来清除硅片表面的自然氧化层,去除硅片表面的光刻胶。本设备清洗的标准工艺是硫酸加过氧化氢加热到120度清洗,可清洗硅片的尺寸是2英寸、3英寸、4英寸。本设备还可用重铬酸钾溶液清洗玻璃器皿。

项目名称计价单位费用类别价格备注
清洗元/小时自主上机机时费350.0
送样清洗元/小时测试费350.0


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