| 仪器名称： | BENEQ 原子层沉积系统 |
| 仪器编号： | 09016504 |
| 产地： | 芬兰 |
| 生产厂家： | BENEQ |
| 型号： | TFS200-106 |
| 出厂日期： | 200810 |
| 购置日期： | 200910 |
| 所属单位： | 集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺 |
| 放置地点： | 微电子所新所一层微纳平台 |
| 固定电话： | |
| 固定手机： | |
| 固定email： | |
| 联系人： | 曹秉军（010-62784044,13910803625,caobj@mail.tsinghua.edu.cn） 窦维治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn） |
| 分类标签： | 微纳加工 原子层淀积 |
| 技术指标： | 原子层淀积，功率4kW，载气：N2；生长精度：0.1nm，反应温度：25~500C，样品尺寸：20-200mm，生长方式：热沉积/等离子体生长；热源2个，温度25~300C；冷源3个。 |
| 知名用户： | 北京大学电子系物理电子学研究所，香港中文大学，清华大学化学系，清华大学物理系纳米中心，清华大学微电子学研究所 |
| 技术团队： | 设备管理：张志刚、窦维治 工艺开发与服务：沈姗姗 设备维护：田振 |
| 功能特色： | 制备氧化物，如氧化铪、氧化铝、氧化钛、氧化钽等，制备氮化物，如氮化钛、氮化钽等，精确到0.1纳米。 |
样品要求：
1、样品大小：2.5~500px；2、样品厚度不得超过5mm；3、样品在沉积温度内性能稳定，不能出现融化、灰化及其它污染腔体的情况；4、有机样品须向管理员或工艺工程师说明样品情况。
预约说明：
根据实验室要求预约ALD使用。在预约ALD生长时，应提前跟工艺工程师联系，包括提供生长参数，提前送样，并及时取样。如果需要更换使用时间请按照要求提前通知，没有提前通知的按照实验室相关规定处理。
| 项目名称 | 计价单位 | 费用类别 | 价格 | 备注 |
|---|---|---|---|---|
| 送样收费标准 | 元/小时 | 自主上机机时费 | 400.0 |