一种快速、安全、简便的溶解方法
Claisse推出采用催化剂溶解高硅样品的全新样品处理方法，以适用于ICP-OES分析
采用ICP-OES分析高硅样品中的金属元素是一件十分困难的事情，主要原因在于要须完全溶解样品中的SiO2。由于氢氟酸的混入，使得无论是否采用无微波消解，都需要将SiO2溶解在溶液中。
Claisse公司推出采用偏硼酸锂溶解的方案，在常见催化剂的作用下，借助沸石、耐火材料，便可使样品得到充分溶解，之后采用ICP_OES进行检测。无需再使用强酸和大量的样品溶解方法。
更多资讯将在3月15日，Pittcon 2011蓝色海报区(B区，3900~4500展区)展出。
您可以参观我们的展台，共同讨论其他样品的溶解方法，例如：
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