| 仪器名称： | 精密对位曝光系统 |
| 仪器编号： | 04001157 |
| 产地： | 奥地利 |
| 生产厂家： | EVG |
| 型号： | EVG620 |
| 出厂日期： | 200303 |
| 购置日期： | 200403 |
| 所属单位： | 物理系>纳米中心>纳米中心加工平台 |
| 放置地点： | 纳米楼超净间 |
| 固定电话： | |
| 固定手机： | |
| 固定email： | |
| 联系人： | 安东（010-62796021,18701647330,andong3014@163.com） |
| 分类标签： | 微纳加工 |
| 技术指标： | EVG620掩模对准曝光机 衬底尺寸：2" - 6"衬底、碎片（单片） 掩模版尺寸：最大7" 对准精度： 光刻对准：顶部对准0.5um 底部对准1um 键合对准：玻璃/硅0.5um 硅/硅1.0um 曝光精度：1um 曝光模式：软接触、硬接触、真空接触、接近式曝光 曝光参数： 350nm-450nm波长汞灯 功率：350W-450W 光强均匀性：4"<2% 6"<2% 用于光刻键合对准 |
| 知名用户： | 校内用户：清华大学化学系、物理系、材料系、环境系、核研院、航院、精仪系、机械系、微电子所、电子系、医学院、工物系、热能系、力学系、建筑系、水利系、土木系、电机系、基础工业训练中心等二十余个院系。校外用户：北京大学、中科院国家纳米中心、半导体所、北航，北理工，中科院物理所、北科大、北化工、北林大、地质大学、成都电子科技大学、上海交通大学、同济大学等多个课题组 |
| 技术团队： | 属于纳米中心测试加工平台，有完善的组织管理体系，有经验丰富的仪器维护管理工程师和专业实验员。还有纳米中心厂务部门支持仪器的外部水、电、气的供应。 |
| 功能特色： | 可以进行单次曝光，单面套刻，双面套刻。 |
| 项目名称 | 计价单位 | 费用类别 | 价格 | 备注 |
|---|---|---|---|---|
| 曝光（厚胶或双面曝光） | 元/小时 | 自主上机机时费 | 600.0 | |
| 曝光（普通胶） | 元/小时 | 自主上机机时费 | 400.0 |