| 仪器名称： | ICP刻蚀机-F |
| 仪器编号： | 13015108 |
| 产地： | 日本 |
| 生产厂家： | 爱发科 |
| 型号： | NE-550H(F) |
| 出厂日期： | 201211 |
| 购置日期： | 201309 |
| 所属单位： | 集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺 |
| 放置地点： | 微电子所新所一层微纳平台（暨微纳技术实验室） |
| 固定电话： | |
| 固定手机： | |
| 固定email： | |
| 联系人： | 窦维治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn） 李希有（010-62784044,13641166426,lxyou@mail.tsinghua.edu.cn） |
| 分类标签： | 半导体 微纳加工 集成电路 刻蚀 |
| 技术指标： | 介电材料刻蚀：ICP模式；刻蚀精度：0.35微米 |
| 知名用户： | 王喆垚、任天令、刘泽文、吴华强、梁仁荣、潘立阳、王敬、许军、邓宁、钱鹤、伍晓明（微电子所） 尤政、朱荣、阮勇（精仪系）、罗毅（电子系）、姚文清（化学系） |
| 技术团队： | 吴华强、伍晓明、刘朋、李希有、仲涛 |
| 功能特色： | 自动化操作，刻蚀方式： ICP模式；刻蚀精度：0.35微米；主要刻蚀介质：Si3N4、Si、POLY-Si、SiO2等材料.刻蚀尺寸：6英寸、4英寸。均匀性小于5%。 |
| 项目名称 | 计价单位 | 费用类别 | 价格 | 备注 |
|---|---|---|---|---|
| 介质刻蚀 | 元/小时 | 自主上机机时费 | 800.0 | |
| 送样刻蚀 | 元/小时 | 测试费 | 800.0 |