| 仪器名称： | NICP刻蚀机 |
| 仪器编号： | 02011812 |
| 产地： | 中国 |
| 生产厂家： | 中科院微电子中心自制 |
| 型号： | NICP-I型 |
| 出厂日期： | 200107 |
| 购置日期： | 200210 |
| 所属单位： | 集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺 |
| 放置地点： | 微电子所新所一层微纳平台 |
| 固定电话： | |
| 固定手机： | |
| 固定email： | |
| 联系人： | 窦维治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn） 李希有（010-62784044,13641166426,lxyou@mail.tsinghua.edu.cn） |
| 分类标签： | 半导体工艺 微纳加工 集成电路 刻蚀 |
| 技术指标： | 介电材料刻蚀：PLASMA、RIE、ICP多种模式；刻蚀精度：1微米 |
| 知名用户： | 王喆垚、任天令、刘泽文、吴华强、梁仁荣、潘立阳、王敬、许军、邓宁、钱鹤、伍晓明（微电子所） 尤政、朱荣、阮勇（精仪系）、罗毅（电子系）、姚文清（化学系） |
| 技术团队： | 吴华强、伍晓明、刘朋、李希有、仲涛 |
| 功能特色： | NICP刻蚀机有多种刻蚀方式：PLASMA模式、RIE模式、ICP模式；刻蚀精度：1微米。主要刻蚀介质：Si、BCB、PI等. 刻蚀尺寸：5英寸及以下及切割片。选择比、均匀性良好。 |
样品要求：
多片式；硅片尺寸：5英寸及以下
预约说明：
实验室的设备采用网上预约的方式、以先约先用为基本原则
取消预约需提前2个小时通过网上取消预约；
| 项目名称 | 计价单位 | 费用类别 | 价格 | 备注 |
|---|---|---|---|---|
| 刻蚀 | 元/小时 | 自主上机机时费 | 300.0 | |
| 送样刻蚀 | 元/小时 | 测试费 | 300.0 |