世界zei大的可调分析范围
JPS-9030采用全新设计的用户界面,进一步提升了可操作性,外观设计现代,时尚。
新开发的考夫曼型蚀刻离子源能提供的蚀刻速率为1 nm/分钟至100 nm /分钟(SiO2),并允许在宽范围的设置。它能够适用于任何应用的剖面分析,不管是精度要求很高的测量还是需要速度的分析。将考夫曼离子源安装在样品交换室上可以防止污染测试室。
SpecSurf Ver.2.0版采用了Ribbon图形用户界面,在用户友好的环境中,所有的操作可以只用鼠标就能完成。 此外,利用日本电子独特的自动定性分析功能,能对多个采集点依次进行定性,定量分析及化学状态分析。
JPS-9030支持如角分辨XPS(ARXPS)和全反射XPS(TRXPS)技术,并且能对1纳米深度的表层进行超高灵敏度的分析(标准测量方法为6nm以上)。
单色X射线源
氩气团簇离子束流适合于有机物样品
红外线加热系统能加热到1,000 °C 以上
转移舱能保护样品不暴露在空气中
强度 (Mg Kα, 300W) | 1,000,000 cps 以上 ( Ag 3d5/2 的FWHM 为 1.0 eV时) |
X射线源 | Mg/Al双阳极靶 |
输入透镜系统 | 圆筒静电透镜 |
能量分析器 | 静电式半球分析器 |
能量扫描方式 | 固定分析器能量及固定减速比 |
检测器 | 多通道板 |
离子枪 | 考夫曼型离子枪 |
极限压力 | zei大 7×10-8 Pa |
烘烤系统 | 内置加热器, 自动控制 |
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