SEMICONChina|谱育科技全新发布EXPEC7350SPLUS，助力助力半导体检测国产化

　　2026年3月25日，SEMICON China 2026在上海新国际博览中心开幕。本届展会以“跨界全球，心芯相连”为主题，汇集全球半导体制造领域主要设备与材料厂商，是产业链上下游技术交流与合作的重要平台之一。

　　展会期间，谱育科技发布了新款三重四极杆电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）——EXPEC 7350S Plus系列，并展示了其在半导体产业链中的多款关键检测设备。

　　新品发布聚焦国产化与自主可控

　　在3月25日上午举行的“芯之眼，中国芯”新品发布会上，谱育科技半导体业务销售总监 汤宏厚表示，精准检测能力已从技术需求演变为支撑中国半导体产业自主可控的战略需求，相关检测设备的核心技术需实现自主掌控。此次发布的EXPEC 7350S Plus ICP-MS/MS，定位于为芯片制造提供国产化的高精度检测手段。

　　中国科学院上海硅酸盐研究所研究员汪正、上海集成电路材料研究院有限公司检测分析事业部主任李春华、中国地质大学（武汉）分析测试中心副主任郭伟三位专家出席发布活动。汪正指出，随着半导体制造进入埃米尺度，ICP-MS在材料纯度控制中发挥着关键作用，新产品的推出为国产半导体产业提供了更具竞争力的检测工具。

　　技术升级：灵敏度与国产化率双提升

　　在技术报告环节，谱育科技吴智威博士介绍了EXPEC 7350S Plus的技术特性。该产品在灵敏度、抗干扰能力及自动化联用方面均有提升，针对湿化学品、晶圆金属杂质、硅烷、电子特气等典型样品的检出限稳定在ppq至亚ppt级别。据介绍，该设备可支持主流及先进制程对材料认证和工艺控制的更高要求。

　　三大解决方案覆盖多场景检测需求

　　展会上，谱育科技集中展示了三大综合解决方案：

　　超痕量金属离子检测：以EXPEC 7350系列为核心，覆盖高纯湿化学品、光刻胶、硅烷、晶圆表面金属残留及高纯石英材料等关键材料的痕量杂质分析。

　　AMC微污染气体监测：通过AMC在线监测系统，结合多种气体分析仪与便携GC-MS，实现对洁净室中总酸、总碱、VOC等污染物的ppb级连续监测。

　　半导体特气探测：展出GDM-2100 Series、GTYQ-4000 Series、GDM-3100 Series及GDM-1000系列等产品，支持40余种特气泄漏检测，并可输出报警信号。

　　应用案例：产线验证与用户反馈

　　据谱育科技介绍，EXPEC 7350系列已在多家半导体企业实现落地应用。

　　在超痕量金属离子检测方面，某宽禁带半导体材料企业将该系列设备用于衬底抛光片、外延片及高纯试剂中痕量金属检测。经过半年使用，用户反馈其在检出限、稳定性、氧化物产率等关键指标上达到或超越国际同类产品水平。此外，多家先进制程芯片制造企业及8英寸、12英寸集成电路制造企业将其用于G3至G5级化学品的质量控制，实现了G5级硝酸、氢氟酸、双氧水等试剂的过程品控。某12英寸硅片制造企业则采用VPD与7350S的组合方案，实现晶圆表面金属离子沾污的自动化监测。

　　在特气泄漏探测方面，GDM-2100 Series气体探测器在某12英寸集成电路生产线建设项目中投入使用，覆盖30余种有毒有害气体的实时监测，并通过多层级报警联动提升产线安全水平。

　　在AMC微污染监测方面，国内一家12英寸晶圆厂采用AMC 1000系统后，实现了洁净室污染物浓度的实时可视化监测，为环境管理和生产优化提供了数据支持，有助于提升良率、降低设备损耗。

　　作为半导体检测装备领域的国内企业之一，谱育科技近年来持续推动高端检测设备的国产化进程。此次EXPEC 7350S Plus的发布，在技术指标与自主可控程度上均体现出进一步突破。随着半导体制造对材料纯度与工艺控制要求的不断提升，国产检测装备在产业链中的地位有望持续增强。