TEM制样：薄膜制备技术

薄膜制备技术

样品要求：

1、薄膜应对电子束“透明”，制得的薄膜应当保持与大块样品相同的组织结构。
2、薄膜得到的图像应当便于分析，所以即使在高压电子显微镜中也不宜采用太厚的样品，减薄过程做到尽可能的均匀．薄膜应具有适当的强度和刚性 。
3、薄膜制备方法必须便于控制，具备足够的可靠性和重复性。

样品制备:

1、线切割：制备厚度约0.20-0.30mm的薄片。
2、机械研磨预减薄：用金相砂纸研磨至100μm 左右，不可太薄防止损伤贯穿薄片。
3、化学抛光预减薄：从圆片的一侧或两则将圆片中心区域减薄至数100μm左右；从薄片上切取直径为3mm的圆片。
4、电解抛光最终减薄。