发布时间:2023-08-18 14:50 原文链接: TOFSIMS(飞行时间二次离子质谱仪)的主要用途

1. 掺杂剂与杂质的深度剖析
2. 薄膜的成份及杂质测定 (金属、电介质、锗化硅 、III-V族、II-V族)
3. 超薄薄膜、浅植入的超高深度辨析率剖析
4. 硅材料整体分析,包含B, C, O,以及N
5. 工艺工具(离子植入)的高精度分析