| 仪器名称： | 化学气相沉积系统 |
| 仪器编号： | 13003987 |
| 产地： | 美国 |
| 生产厂家： | TRION |
| 型号： | PHANTOMIII |
| 出厂日期： | 201205 |
| 购置日期： | 201303 |
| 所属单位： | 集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺 |
| 放置地点： | 微电子所新所一层微纳平台 |
| 固定电话： | |
| 固定手机： | |
| 固定email： | |
| 联系人： | 窦维治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn） |
| 分类标签： | 集成电路 微纳加工 半导体工艺 PECVD |
| 技术指标： | 等离子增强型化学气相淀积；工艺温度100～400℃ |
| 知名用户： | 吴华强 微电子所；许军 微电子所；陈炜 微电子所；钱鹤 微电子所；刘泽文 微电子所；岳瑞峰 微电子所； 王喆垚 微电子所；蔡坚 微电子所；邓宁 微电子所；伍晓明 微电子所； 张志勇 北京大学 |
| 技术团队： | 张忠会 田震 韩冰 窦维治 |
| 功能特色： | 此设备在100～400℃下淀积SiOx、SiNx、SiOxNy、ɑ-Si、SiCx 高低应力SiNx薄膜。反应气体主要是元素的氢化物。 |
样品要求：
单片式：12英寸及以下
预约说明：
实验室的设备采用网上预约的方式、以先约先用为基本原则
取消预约需提前2个小时通过网上取消预约
| 项目名称 | 计价单位 | 费用类别 | 价格 | 备注 |
|---|---|---|---|---|
| PECVD淀积 | 元/小时 | 自主上机机时费 | 500.0 | |
| 送样 | 元/小时 | 测试费 | 500.0 |