中国第一届ALD学术交流会在上海成功举行

　　2010年10月18日-10月19日在上海举办的中国第一届ALD学术交流会成功举行!

　　这次大会是由芬兰PICOSUN公司和复旦大学主办，南京大学、中国科学院上海技术物理研究所、上海纳米技术及应用国家工程研究中心和北京正通远恒科技有限公司联合承办， 这次会议我们非常荣幸得邀请到ALD技术方面很多资深的教授及研究者来做报告，旨在方便中国优秀科研工作者交流分享ALD技术的最新研究进展和相关领域的研究成果。　　

　　大会合影　　

　　ALD技术发明人Dr. Tuomo Suntola――ALD for Advanced Semiconductor and Nanotechnology Manufacturing　　

　　张卫教授――ALD High-k Materials for Gate Oxide and Memory　　

　　Prof.Mikko Ritala――ALD Chemistry: Overview and Future Challenges/ALD in Optical Applications　　

　　李爱东教授――Atomic Layer Deposition of Dielectric Films and Their Applications　　

　　陈鑫教授――Preparation, Assembly and Applications of Nanostructures　　

　　分会主持人――刘红侠教授　　

　　丁士进教授――Atomic-layer-deposited High-k Dielectrics for High Density Metal-insulator-metal Capacitors　　

　　王宏涛教授――Atomic Layer Deposition of Oxides for Microelectronics　　

　　Jarmo E. Heinonen――Science, Technology and Innovation Cooperation between China and Finland　　

　　Mr. Juhana Kostamo――Burgeoning ALD Technology and Market Outlook　　

　　黎微明博士――Design Considerations of ALD Reactor for Bridging the Research and Production　　

　　现场气氛很活跃　　

　　Question and Answer　　

　　北京正通远恒科技有限公司总经理刘斌先生做最后总结