薄膜测量 |
|---|
薄膜测量系统是基于白光干涉的原理来确定光学薄膜的厚度。白光干涉图样通过数学函数被计算出薄膜厚度。对于单层膜来说，如果已知薄膜介质的n和k值就可以计算出它的物理厚度。 AvaSoft-Thinfilm应用软件内包含有一个大部分常用材料和膜层n和k值的内置数据库。 AvaSoft-Thinfilm系统可以测量的膜层厚度从10 nm到50 µm，分辨率可达1 nm。 薄膜测量广泛应用于半导体晶片生产工业，此时需要监控等离子刻蚀和沉积加工过程。还可以用于其它需要测量在金属和玻璃基底上镀制透明膜层的领域。其他领域中，金属表面的透明涂层和玻璃衬底也需要严格测量。 AvaSoft-Thinfilm应用软件能够实时监控膜层厚度，并且可以与其他AvaSoft应用软件如XLS输出到Excel软件和过程监控软件一起使用。 薄膜测量的典型装置如图所示。
|
薄膜测量常用配置 光谱仪 AvaSpec-2048光谱仪，UA光栅（200-1100 nm），DUV镀膜，DCL-UV/VIS灵敏度增强透镜，100 µm狭缝，OSC-UA消二阶衍射效应镀膜测量膜厚范围 10 nm - 50 µm，1 nm分辨率软件 AvaSoft-Thinfilm应用软件光源 AvaLight-DHc紧凑型氘-卤素光源光纤 1根FCR-7UV200-2-ME反射光纤探头附件 THINFILM-STAGE支架，用于固定反射光纤探头 Thinfilm-standard Tile with 3 calibrated different thickness layers of SiO2
|
