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激光脉冲沉积(PLD)的发展前景

由脉冲激光沉积技术的原理、特点可知,它是一种极具发展潜力的薄膜制备技术。随着辅助设备和工艺的进一步优化,将在半导体薄膜、超晶格、超导、生物涂层等功能薄膜的制备方面发挥重要的作用;并能加快薄膜生长机理的研究和提高薄膜的应用水平,加速材料科学和凝聚态物理学的研究进程。同时也为新型薄膜的制备提供了一种行之有效的方法。......阅读全文

激光脉冲沉积(PLD)的发展前景

  由脉冲激光沉积技术的原理、特点可知,它是一种极具发展潜力的薄膜制备技术。随着辅助设备和工艺的进一步优化,将在半导体薄膜、超晶格、超导、生物涂层等功能薄膜的制备方面发挥重要的作用;并能加快薄膜生长机理的研究和提高薄膜的应用水平,加速材料科学和凝聚态物理学的研究进程。同时也为新型薄膜的制备提供了一

激光脉冲沉积(PLD)简介

  脉冲激光沉积 (Pulsed laser deposition),就是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积,利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离,使其能够脱离靶材而向基底运动,进而在基底上沉积,从而形成薄膜的一种方式。 在众多的薄膜制备方法中,脉冲激光沉积技术的应用最为广泛,可用来制备金属、

激光脉冲沉积(PLD)的优点

  1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜,即具有良好的保成分性;   2. 沉积速率高,试验周期短,衬底温度要求低,制备的薄膜均匀;   3. 工艺参数任意调节,对靶材的种类没有限制;   4. 发展潜力巨大,具有极大的兼容性;   5. 便于清洁处理,可以制备多种薄膜材料。

激光脉冲沉积(PLD)的机制

  PLD的系统设备简单,相反,它的原理却是非常复杂的物理现象。它涉及高能量脉冲辐射冲击固体靶时,激光与物质之间的所有物理相互作用,亦包括等离子羽状物的形成,其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移,及最后的膜生成过程。所以,PLD一般可以分为以下四个阶段:   1. 激光辐射

激光脉冲沉积(PLD)的历史背景

  早于1916年,爱因斯坦(Albert Einstein)已提出受激发射作用的假设。可是,首次以红宝石棒为产生激光媒介的激光器,却要到1960年,才由梅曼(Theodore H. Maiman)在休斯实验研究所建造出来。总共相隔了44年。使用激光来熔化物料的历史,要追溯到1962年,布里奇(Br

激光粒度仪的发展前景

 激光粒度仪是一种通过颗粒的衍射或者散射光的空间分布,来分析未来颗粒大小的一种光学仪器,被广泛的应用于多个行业当中。随着技术水品的不断提高,短短的几十年我国粒度仪实现了从无到有的突破性发展,也成长为zui大的粒度仪市场。下面小编就来为大家具体介绍一下激光粒度仪的发展前景吧,希望可以帮助到大家。

激光切割机的发展前景

  与传统的氧乙炔、等离子等切割工艺相比,激光切割速度快、切缝窄、热影响区小、切缝边缘垂直度好、切边光滑,同时可激光切割的材料种类多,包括碳钢、不锈钢、合金钢、木材、塑料、橡胶、布、石英、陶瓷、玻璃、复合材料等。随着市场经济的飞速发展和科学技术的日新月异,激光切割技术已广泛应用于汽车、机械、电力、

中国科学院微电子研究所复合脉冲激光沉积薄膜系统招标

  项目概况   中国科学院微电子研究所复合脉冲激光沉积薄膜生长和检测系统采购项目 招标项目的潜在投标人应在www.o-science.com获取招标文件,并于2021年12月14日 14点30分(北京时间)前递交投标文件。   一、项目基本情况   项目编号:OITC-G210291136

Measuring PLD Activity In Vivo

Phospholipase D (PLD) hydrolyzes structural phospholipids like phosphatidylcholine (PC) and phosphatidylethanolamine (PE) into phosphatidic acid

自由电子激光器的发展前景

  自由电子激光器在短波长、大功率、高效率和波长可调节这四大主攻方向上,为激光学科的研究开辟了一条新途径,它可望用于对凝聚态物理学、材料特征、激光武器、激光反导弹、雷达、激光聚变、等离子体诊断、表面特性、非线性以及瞬态现象的研究,在通讯、激光推进器、光谱学、激光分子化学、光化学、同位素分离、遥感等