极紫外激光的可靠光源？少周期飞秒驱动源激光脉冲产生
少周期飞秒驱动源是产生极紫外波段孤立阿秒脉冲的重要条件，采用常规方案需要经过光谱展宽与脉冲压缩两个过程，不仅效率低，而且压缩元件对大能量脉冲的承受能力也极为有限。近年来人们利用光谱展宽过程中的非线性效应实现色散补偿，即自压缩效应，为这一问题的解决提供了新的思路，不仅简化了脉冲压缩过程，也有利于大能量超短脉冲的产生。然而自压缩效应存在着复杂的非线性过程，既要展宽脉冲光谱，又要满足脉冲传输过程中的正负色散匹配，因此对自压缩效应的控制极为困难。尤其对常用的800nm波段钛宝石激光，由于缺乏具有合适负色散的光学材料，通常很难实现自压缩。 中国科学院物理研究所/北京凝聚态物理国家研究中心光物理重点实验室魏志义研究组（L07组）多年来致力于少周期激光脉冲产生的研究，最近该组博士研究生高亦谈在赵昆、魏志义等人的指导下，基于研究组内发展的薄片组光谱展宽技术，利用飞秒钛宝石放大激光电离产生的锥状辐射效应，通过在空间上精确寻找到色散匹配最佳位......阅读全文
极紫外激光的可靠光源？少周期飞秒驱动源激光脉冲产生
少周期飞秒驱动源是产生极紫外波段孤立阿秒脉冲的重要条件，采用常规方案需要经过光谱展宽与脉冲压缩两个过程，不仅效率低，而且压缩元件对大能量脉冲的承受能力也极为有限。近年来人们利用光谱展宽过程中的非线性效应实现色散补偿，即自压缩效应，为这一问题的解决提供了新的思路，不仅简化了脉冲压缩过程，也有利于大
亚周期光场调控研究获进展-高效率超连续光谱
亚周期光场作为超快光学的前沿热点，是实现对光场极端调控的重要目标，有助于人们从光场波形的本源上认识和调控光与物质相互作用过程，也是产生孤立阿秒脉冲的理想驱动光源之一。如何产生小于一个光学周期的超快光场，面临着颇具挑战性的问题：高效率超连续光谱的产生、超倍频程激光光谱的色散管理、多束激光脉冲之间的
物理所成功产生中红外波段高平均功率近周期飞秒激光脉冲
扩展激光波长范围是光谱学的重要内容之一，得益于超快光学的快速发展，目前人们已产生了振荡频率覆盖从太赫兹、红外、可见、极紫外乃至X射线的相干辐射，极大地推进了光科学挑战极限的能力。特别是近年来在阿秒脉冲激光、光学频率梳、超强物理等研究中，红外飞秒激光作为取得新突破的基础和关键，引起了人们越来越广泛
中红外实现飞秒激光脉冲 波长覆盖6.8-16.4μm波段
扩展激光波长范围是光谱学的重要内容之一，得益于超快光学的快速发展，目前人们已产生了振荡频率覆盖从太赫兹、红外、可见、极紫外乃至X射线的相干辐射，极大地推进了光科学挑战极限的能力。特别是近年来在阿秒脉冲激光、光学频率梳、超强物理等研究中，红外飞秒激光作为取得新突破的基础和关键，引起了人们
魏志义团队《APL》发文：迈向亚周期光场调控的新进展
亚周期光场作为超快光学的前沿内容，一直是人们实现对光场极端调控的重要目标，其不仅有助于人们从光场波形的本源上认识和调控光与物质相互作用过程，而且也是产生孤立阿秒脉冲的理想驱动光源之一。但是如何产生小于一个光学周期的超快光场，长期以来面临着三个极具挑战性的重要问题：1.高效率超连续光谱的产生；2.
研究实现超快激光脉冲之间的全相位锁定调控
实现多束不同光谱超快激光脉冲，特别是飞秒激光脉冲的相干合成，不仅可以有效提高激光脉冲的总能量，也是获得亚周期激光脉冲的重要手段，并能突破单束激光脉冲所能提供的峰值功率限制的瓶颈。因此，超快激光脉冲之间的同步与相干合成已成为近年来激光物理领域的重要研究课题，其关键技术之一是脉冲之间的全相位锁定与调
物理所高次谐波光谱中的全量子轨道映射研究获进展
原子内部电子动力学行为的演化是物理、化学、生物以及材料等学科研究中最基本的过程。精密测量电子的动力学特性，实现对其物理性质的理解，进而控制原子内电子的动力学行为是人们追求的重要科学目标之一。具有阿秒（10-18秒）时间分辨的高次谐波由于光子能量高(10eV~keV量级)、脉宽短(亚飞秒
激光脉冲沉积（PLD)简介
脉冲激光沉积 （Pulsed laser deposition），就是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积，利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离，使其能够脱离靶材而向基底运动，进而在基底上沉积，从而形成薄膜的一种方式。 在众多的薄膜制备方法中，脉冲激光沉积技术的应用最为广泛，可用来制备金属、
激光脉冲沉积（PLD)的机制
PLD的系统设备简单，相反，它的原理却是非常复杂的物理现象。它涉及高能量脉冲辐射冲击固体靶时，激光与物质之间的所有物理相互作用，亦包括等离子羽状物的形成，其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移，及最后的膜生成过程。所以，PLD一般可以分为以下四个阶段： 1. 激光辐射与靶的
激光脉冲沉积（PLD)的优点
1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性； 2. 沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀； 3. 工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制； 4. 发展潜力巨大，具有极大的兼容性； 5. 便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料。