电磁辐射激发X荧光分析的简介
简称EDXRF。电磁辐射激发一般用X射线管或Fe、Pu、Cd、、Co等放射性同位素作激发源。这时它的探测极限虽不及PIXE，但制样简便，常常可以直接分析原始样品，而且既能分析低含量样品，又能分析高含量样品，因此应用更为广泛。X射线在物质中的穿透能力较大,故能测量较厚样品中的元素平均含量。当使用放射性同位素作激发源时能够制成便携式的仪器，不仅可用于实验室，还可以用于工厂、野外地质和矿山。当使用电子同步加速器或电子储存环发出的高强度偏振辐射作激发源时，探测极限比PIXE好几个数量级。若再使用晶体单色器，还可以制成同步辐射X射线微探针，进行微区分析。......阅读全文
电磁辐射激发X荧光分析的简介
简称EDXRF。电磁辐射激发一般用X射线管或Fe、Pu、Cd、、Co等放射性同位素作激发源。这时它的探测极限虽不及PIXE，但制样简便，常常可以直接分析原始样品，而且既能分析低含量样品，又能分析高含量样品，因此应用更为广泛。X射线在物质中的穿透能力较大,故能测量较厚样品中的元素平均含量。当使用放
质子激发X射线荧光分析的简介
利用原子受质子激发后产生的特征 X射线的能量和强度来进行物质定性和定量分析的方法。简称质子 X射线荧光分析，英文缩写为PIXE。质子X 射线荧光分析是20 世纪70 年代发展起来的一种多元素微量分析技术，其分析灵敏度可达10-16 克，相对灵敏度可达10-6～10-7 克/克。原则上可分析原子序
电子激发X荧光分析的介绍
电子激发X荧光分析的轫致辐射本底比PIXE高二个量级以上，因此分析灵敏度低得多。但是，用聚焦的电子束激发样品表面1微米的区域,使产生元素的特征X 射线，可以观察样品表面组成的局部变化。用这种方法能测定合金、矿物、陶瓷等样品中的夹杂物和析出物，决定合金元素的局部富集区等。
质子激发X射线荧光分析的X 射线谱
在质子X 射线荧光分析中所测得的X 射线谱是由连续本底谱和特征X 射线谱合成的叠加谱。样品中一般含有多种元素，各元素都发射一组特征X 射线谱，能量相同或相近的谱峰叠加在一起，直观辨认谱峰相当困难，需要通过复杂的数学处理来分解X 射线谱。解谱包括本底的扣除、谱的平滑处理、找峰和定峰位、求峰的半高宽
激发X射线荧光分析法的概念
当α 、β、γ或X射线作用于样品时，由于库仑散射，轨道电子吸收其部分动能，使原子处于激发状态。由激发态返回基态时发射特征X射线，根据此特征X射线的能量和强度来分析元素的种类和含量。其灵敏度很高，用途很广。
质子激发X射线荧光分析的实验装置
质子X 射线荧光分析的主要实验装置包括： ①加速器，一般用质子静电加速器，选用能量为1～3 兆电子伏的质子，在此能量范围内，质子激发X射线的产额高，灵敏度高；质子的能量再高时，将会引起许多核反应，使本底增大；能量再低时，质子的穿透能力下降，只能用于表面分析。②靶室（或称散射室），是分析样品放置
简述质子激发X射线荧光分析的原理
基本原理是用高速质子照射样品，质子与样品中的原子发生库仑散射。原子内层电子按一定几率被撞出内壳层，留下空穴，较外层电子向这个空穴跃迁时发射出特征X 射线。用探测仪器探测和记录这些特征X 射线谱，根据特征X 射线的能量可定性地判断样品中所含元素的种类，根据谱线的强度可计算出所测元素的含量。
带电粒子激发X荧光分析的概述
简称PIXE,它应用的带电粒子可以是质子、α粒子或重离子，目前使用最多的是质子。它是用加速器（常用静电加速器产生的几兆电子伏能量的质子束轰击样品，质子使样品中各元素原子的内层电子电离，接着较外层的电子向内层跃迁,同时发射X射线。由于各种元素发射具有特定波长（或能量）的标识X射线,可利用锂漂移硅探
质子激发X射线荧光分析的非真空分析技术
质子X 射线荧光分析一般在真空中照射样品（称作真空分析或内束技术），但也发展了一种非真空分析技术（或称外束技术），即将质子束从真空室中引出，在空气（或氦气）中轰击样品。真空分析可能引起厚样品积累正电荷（质子电荷）而吸引周围电子，造成本底增高。非真空分析由于样品周围空气电离而有导电性，可消除电荷积
技术课堂之X荧光激发源的激发方式
针对通常的X射线荧光光谱仪，比较普及的激发方法有一下几种： 一、用放射性同位素源激发 源激发是将小量的放射性同位素，如55Fe（铁）、109Cd（镉）等化学物质固封在密封性的多出小圆孔的铅罐中，持续发射点出低能γ放射线，经准直后照射被测化学物质上造成X莹光。放射性同位素源传出的X射线