打破国外垄断场发射枪扫描电子显微镜专项通过验收
日前，国家重大科学仪器设备开发专项“场发射枪扫描电子显微镜开发和应用”项目在北京通过科技部验收，这标志着这一纳米研究领域的高端科学仪器实现了国产化。 该项目由中国科学院下属企业北京中科科仪股份有限公司承担研制工作。在项目技术综合验收会上，科技部验收专家组现场听取了项目完成情况汇报，观看了项目视频，听取了异地测试情况汇报。与会专家组成员认为项目按期完成了任务书规定的项目目标及各项考核指标，形成两款产品并已陆续交付。专家组对项目完成情况给予高度评价，一致同意通过验收。 该项目突破了高分辨电子光学成像系统设计、场发射枪工程化设计制造、电子束加速镜筒设计制造等多项关键技术，成功开发出具有自主知识产权的肖特基场发射枪扫描电子显微镜，分辨率指标分别达到和优于3nm@1kV和1nm@30kV，达到国际一流水平。 中科科仪董事长兼项目负责人张永明表示，该项目促进了我国电子光学仪器产业的发展，使我国扫描电镜研制水平上了一个台阶，有效解......阅读全文
场发射扫描电子显微镜
场发射扫描电子显微镜(FESEM)是电子显微镜的一种。 该仪器具有超高分辨率，能做各种固态样品表面形貌的二次电子像、反射电子象观察及图像处理。该仪器利用二次电子成像原理，在镀膜或不镀膜的基础上，低电压下通过在纳米尺度上观察生物样品如组织、细胞、微生物以及生物大分子等，获得忠实原貌的立体感极强的
场发射扫描电子显微镜应用范围
场发射扫描电子显微镜，广泛用于生物学、医学、金属材料、高分子材料、化工原料、地质矿物、商品检验、产品生产质量控制、宝石鉴定、考古和文物鉴定及公安刑侦物证分析。可以观察和检测非均相有机材料、无机材料及在上述微米、纳米级样品的表面特征。该仪器的最大特点是具备超高分辨扫描图像观察能力，尤其是采用最新数
场发射扫描电子显微镜的简介
场发射扫描电子显微镜具有超高分辨率，具有高性能X射线能谱仪，能同时进行样品表层的微区点线面元素的定性、半定量及定量分析，具有形貌、化学组分综合分析能力，能做各种固态样品表面形貌的二次电子象、反射电子象观察及图像处理。 场发射扫描电子显微镜（FESEM）具有超高分辨率，能做各种固态样品表面形貌
场发射扫描电子显微镜应用范围
场发射扫描电子显微镜应用范围 1、金属、陶瓷、高分子、矿物、水泥、半导体、纸张、塑料、食品、生物等材料的显微形貌、晶体结构和相组织的观察和分析。 2、各种材料微区化学成分的定性和半定量检测。 3、粉末、微粒纳米样品形态和粒度的测定。 4、复合材料界面特性的研究。 场发射扫描电子显微镜具有高
场发射扫描电子显微镜的应用范围
场发射扫描电子显微镜，广泛用于生物学、医学、金属材料、高分子材料、化工原料、地质矿物、商品检验、产品生产质量控制、宝石鉴定、考古和文物鉴定及公安刑侦物证分析。可以观察和检测非均相有机材料、无机材料及在上述微米、纳米级样品的表面特征。该仪器的最大特点是具备超高分辨扫描图像观察能力，尤其是采用最新数字化
场发射扫描电子显微镜的功能介绍
场发射扫描电子显微镜（FESEM）是电子显微镜的一种。该仪器具有超高分辨率，能做各种固态样品表面形貌的二次电子像、反射电子象观察及图像处理。该仪器利用二次电子成像原理，在镀膜或不镀膜的基础上，低电压下通过在纳米尺度上观察生物样品如组织、细胞、微生物以及生物大分子等，获得忠实原貌的立体感极强的样品表面
场发射扫描电子显微镜技术参数
场发射扫描电子显微镜可对金属、陶瓷、矿物、岩石、生物等样品以及各种固体材料进行观察和分析研究。具有超高分辨率，能做各种固态样品表面形貌的二次电子象、反射电子象观察及图像处理。本文主要为大家介绍一下场发射扫描电子显微镜技术参数、主要用途及应用范围。 SIGMA500场发射扫描电子显微镜技术参数 分
详解场发射扫描电子显微镜实验步骤！
场发射扫描电子显微镜（FESEM）是电子显微镜的一种。该仪器具有超高分辨率，能做各种固态样品表面形貌的二次电子像、反射电子象观察及图像处理。该仪器利用二次电子成像原理，在镀膜或不镀膜的基础上，低电压下通过在纳米尺度上观察生物样品如组织、细胞、微生物以及生物大分子等，获得忠实原貌的立体感极强的样品
场发射扫描电子显微镜主要用途
场发射扫描电子显微镜主要用途 场发射扫描电子显微镜，广泛用于生物学、医学、金属材料、高分子材料、化工原料、地质矿物、商品检验、产品生产质量控制、宝石鉴定、考古和文物鉴定及公安刑侦物证分析。可以观察和检测非均相有机材料、无机材料及在上述微米、纳米级样品的表面特征。该仪器的最大特点是具备超高分辨扫描图
场发射扫描电子显微镜的维护保养方法
（1）检查光阑对中。在更换试样、调整加速电压和探测器类型时需检查光阑是否对中。具体操作方法是打开调焦摇摆功能，查看高倍数下电子图像是否上下左右摆动，若摆动则调节光阑对中按钮，直至图像仅出现上下摆动。（2）检查像散情况。像散是电子光学系统中所形成的磁场或静电场不能满足轴对称要求时产生的。图像聚焦和消像