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a.接触式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。 1.软接触 就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面； 2.硬接触 是将基片通过一个气压（氮气），往上顶，使之与掩膜接触； 3.真空接触 是在掩膜和基片中间抽气，使之更加好的贴合（想一想把被子抽真空放置的方式） 软<硬<真空 接触的越紧密，分辨率越高，当然接触的越紧密，掩膜和材料的损伤就越大。 缺点：光刻胶污染掩膜板；掩膜板的磨损，容易损坏,寿命很低（只能使用5～25次）；容易累积缺陷；上个世纪七十年代的工业水准，已经逐渐被接近式曝光方式所淘汰了，国产光刻机均为接触式曝光，国产光刻机的开发机构无法提供工艺要求更高的非接触式曝光的产品化。 b.接近式曝光（Proximity Pr......阅读全文
中科院大连化学物理研究所 林炳承教授 中科院大连化学物理研究所林炳承教授与大家分享了功能化微流控芯片实验室的构建设想。 林教授在报告中指出，一系列主要的分析化学操作模式已经在微流控芯片上实现，原则上讲，几乎所有的分析化学操作模式均可以在微流控芯片及其周边完成。微流控芯片分析化学实
如今,单克隆抗体药物以其独特的作用机制及高效性,在肿瘤和自身免疫疾病的治疗中发挥了不可估量的作用,成为全球的研发热点，目前已有2400个单克隆抗体药物处于研发及商业化阶段。 1975年杂交瘤技术问世[1]。1986年鼠源单克隆抗体药物Muromonab的上市拉开了单克隆抗体发展的序幕。
材料是人类一切生产和生活的物质基础，历来是生产力的标志，对材料的认识和利用的能力，决定社会形态和人们的生活质量。新材料则是战略新兴产业发展的基石。新材料种类 一、我国新材料产业现状我国新材料生产情况 几乎所有的新材料我国都能够生产并且正在生产，包括： 高性能工程材料 POK聚酮、PPO聚
我国装备制造要由中低端向中高端迈进，首先要解决制造质量问题，其核心关键是解决超精密测量能力问题。没有超精密测量，就不会有高质量的高端装备制造。我国现阶段须迫切完成的任务是，补齐精密测量能力，追平超精密测量能力，在完整精度阶段胜出。只有从根本上解决整体测量能力问题，才能从根本上解决高端装备制造质量