使晶面平坦度达原子水平的新型研磨技术出现了
东京大学研究人员通过一边浇水一边用丙烯酸板研磨硅基板，成功达到了原子水平的平坦度。整个过程不使用药液和抛光磨粒，硅基板表面粗糙度实现仅0.037纳米，加工成本仅水费和电费。相关论文发表在《Applied Physics Letters》上。 其工作原理是，将研磨对象推压于边泼水边旋转的丙烯板，丙烯板表面会因丙烯酸树脂发生水解而排满羧酸，起到化学研磨的作用。 这一新技术只使用水而不使用微粒和药液，且丙烯板也是可大量生产的通用品，未来有望应用于半导体基板研磨，并在减轻环境负荷的同时降低生产成本。......阅读全文
使晶面平坦度达原子水平的新型研磨技术出现了
东京大学研究人员通过一边浇水一边用丙烯酸板研磨硅基板，成功达到了原子水平的平坦度。整个过程不使用药液和抛光磨粒，硅基板表面粗糙度实现仅0.037纳米，加工成本仅水费和电费。相关论文发表在《Applied Physics Letters》上。 其工作原理是，将研磨对象推压于边泼水边旋转的丙烯板，
晶面产生衍射的充要条件
d为晶面间距，θ为入射线，反射线与反射晶面之间的夹角，λ为波长，n为反射级数，布拉格方程是X射线在晶体产生衍射时的必要条件而非充分条件。
冷冻研磨仪|样品研磨时该如何选择研磨珠
不管是哪种类型的研磨仪在对样本进行研磨时，都是需要去选择研磨珠来对样本的研磨做助力的，那我们该怎样去对冷冻组织研磨仪所需的研磨球进行选择呢，那研磨球的直径又该选择多大的呢，研磨球和样本的比例又该怎样进行分配呢，这些你都知道吗？想要更好的对样本进行研磨，研磨珠的正确选择可是很重要的哦。在使用冷冻研磨仪
xrd松花粉需要研磨吗
首先要知道为啥要研磨。研磨是为了使晶面均匀分布在各个方向。如果不研磨导致晶面分布不均只会造成峰高低的变化，不会导致峰位置的偏移。不过最好还是要研磨。毕竟研磨比不研磨好。除非是单晶，不研磨只需要几个衍射面的峰，花粉也不可能是单晶。PS：XRD是测晶面常数的，不知道用到花粉里面是怎么个机理，但是衍射原理
研磨机研磨样品真实案例
案例一：多样品组织研磨机Tissuelyser-24研磨指甲-上海净信返回 实验目的：研磨指甲提取核酸。实验地点：北京全普基因公司实验材料和器具样品：指甲仪器：TISSUELYSER-24多样品研磨机（上海净信）配件：XXmlL研磨管 研磨珠（上海净信 ，XXmm XXmm）研磨条件：液氮冷冻研磨
离子研磨仪的截面研磨法
截面研磨法是在样品和离子枪之间安装一个遮挡板，使样品局部突出遮挡板边缘，然后用离子束照射样品。沿遮挡板边缘溅射突出边缘的部分，由此可获得切割均匀的截面。使样品突出遮挡板数十微米至100微米，并以±15～40°旋转样品杆，以防产生离子研磨痕迹（细条纹）。截面研磨普遍适用于块状样品和多层结构等机械研
湿法研磨与干法研磨的区别
目前在粉体行业内有很多种的处理要求，随着粉体行业的竞争日益激烈，越来越多的客户想要达到更加精细的物料，粉体行业也不断的朝着纳米粉体的方向发展，所以以前的单一的处理方法已经不适用了，那么就会寻找一些相关的纳米粉体制备就成了某些企业的关键问题了。企业界是以物理机械研磨的方法得以让粉体物料达到纳米为主。即
如何区别湿法研磨与干法研磨？
以前国内粉体市场上绝大多数产品对粉体后处理要求不高，普通的方法就能得到粉体所需的要求。但随着粉体行业竞争日益激烈，许多粉体企业正在不断朝着纳米粉体方向发展，以前用于的得到粉体方法已不太适用。寻找制备纳米粉体的方法以成了企业的的一关健所在。 目前为止，企业界是以物理机械研磨方法以得到
液晶面板光学显微镜
液晶面板光学显微镜该光学自动化检测设备主要用于LCB、PDP、PCB等相关的光电产业，为其研发、制造提供所需的检测设备。具有观察OLB压接粒子分布、液晶板表面贴附的异物、液晶板划伤情况、面板上的Bonding 效果测量导电粒子大小、数量等功能。该光学自动化检测设备主要用于LCB、PDP、PCB等相关
振动研磨抛光机振动研磨抛光机的研磨抛光
振动研磨抛光机在工件的表面研磨抛光处理中，是常用的研磨抛光机。它的工作容器口径大，方便操作，所以在工件的表面研磨抛光处理中使用率较高。振动研磨抛光机能适应工件的粗抛光研磨处理，即去毛刺、去氧化皮、去飞边等等粗抛光，又能适应工件表面的精抛光，即工件表面的光亮光滑抛光。因为它简单实用，所以振动研磨抛