分析半导体用水设备的工艺原理及发展

　半导体用水工作原理：
 

　　1.水进入 EDI 系统，主要部分流入树脂 / 膜内部，而另一部分沿模板外侧流动，以洗去透出膜外的离子。
 

　　2.树脂截留水中的溶存离子。
 

　　3.被截留的离子在电极作用下，阴离子向正极方向运动，阳离子向负极方向运动。
 

　　4.阳离子透过阳离子膜，排出树脂 / 膜之外。
 

　　5.阴离子透过阴离子膜，排出树脂 / 膜之外。
 

　　6.浓缩了的离子从废水流路中排出。
 

　　7.无离子水从树脂 / 膜内流出。
 

　　半导体用水：在工艺设计上，达到国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床系统等。
 

　　1.混床系统采用离子交换技术，内装阴、阳树脂，合理的树脂层高度能有效地保证出水水质满足用户要求。
 

　　2.RO主机系统引进国际上先进的反渗透技术，利用压力差原理，能有效地去除水中的盐类，脱盐率可达到99%左右。
 

　　3.介质过滤器主要作用是去除源水中的悬浮物质及机械杂质设备由不锈钢材料制作而成。体内装有布水帽、精制石英砂等，亦可装其它填料。合理的石英砂装填比例及良好的布水系统，使系统的产水水质更加稳定。另外设备还设有气体冲刷功能，能大限度地清除介质上及床层中的污垢，提高出水水质和延长工作周期。
 

　　4.活性碳过滤器具有除臭、去色、除油、吸附有机物杂质等作用,能zui大程度的去除水中的游离余氯，保证反渗透膜的进水水质，设备由不锈钢材料制成。
 

　　半导体用水装置的特点:
 

　　1.占地面积小。
 

　　2.产水率高可达95%。
 

　　3.安装简单，运行维护成本低。
 

　　4.容易实现全自动控制。
 

　　5.可连续运行，产品水水后移定。
 

　　6.设备单元模块化，可灵活的组合达到需要的产品水流量。
 

　　7.除清洗用药剂外，无须用大量酸、碱运送、存储、再生设施。
 

　　8.下会因离子交换树脂再生而停机，节省了再生用水及再生排水处理设施。
 

　　9.EDI设备初期投资大，维修也较困难，对细菌的抗污染能力较低，当有细菌在其内部繁殖时，将会大幅度降低膜堆的性能，所以一般要求停机超过3天，就必须注人5%的NaCl溶液进行保护，或者是不间断运行，防止细菌生长。