近日,泛半导体缺陷检测创新型企业创锐光谱宣布完成近亿元Pre-A轮融资,由光速光合领投。融资资金将主要用于技术研发和产能扩容。
创锐光谱成立于2016年,是全球领先的瞬态光谱技术产业化企业,立足瞬态光谱技术,建立了从基础科学研究到泛半导体检测领域的全系列产品。历经多年的技术积累与深度耕耘,创锐光谱在光谱学系统、激光器、OPO、探测器、自动化等关键技术和核心组件及软件与运动控制算法等方面均实现自研。
光速光合执行董事郭斌表示,创锐光谱集结了中科院、浙江大学、埃默里大学等多家世界顶级学府及科研院所的专家团队,深耕工业界极为稀缺的瞬态光谱检测技术。公司以科研市场为依托,开创性地开发出具有生产指导价值的新型高端检测设备,同时突破现有光学检测手段的能力边界,有效延伸到碳化硅功率器件、钙钛矿光伏组件、MicroLED显示面板等高端制造领域,显著促进了几大新兴领域的商业化进程。尤其在碳化硅领域,已成功向国内外龙头企业交付了全球范围内首台套该类型的高端检测设备,树立了行业标杆。此外,经过多年技术积淀,公司成功实现在激光器、探测器等关键零部件完全自主化生产,打破了国外巨头的供应链垄断,构建了极深的行业护城河。
创锐的科研产品线包括超快瞬态吸收光谱系统、超快瞬态吸收显微成像、纳秒瞬态吸收光谱系统、闪光光解系统等,其产品成功打破欧美等巨头垄断,目前已进入国内外近百所高校和研究机构,超快光谱系统实现国内市占率第一;在化合物半导体检测产品领域,创锐光谱构建了从衬底到外延的一站式检测方案;在泛半导体其他领域,已实现钙钛矿光伏面板、第二代半导体晶圆和芯片和MicroLED等多个不同场景检测技术和设备的落地,不断拓宽市场和技术的边界。
创锐光谱CEO陈俞忠博士表示,近一年来创锐光谱在SiC晶圆缺陷检测方面取得了巨大的技术突破,成功开发了衬底/外延位错缺陷无损检测、点缺陷检测、高速载流子寿命检测等多种专用设备,在全球范围内首次解决了SiC衬底位错缺陷无损检测的世界性难题,该突破性技术也不断得到行业认可,相关DiSpec系列检测设备已实现全球首套落地,并同步发运国际和国内头部客户。
本轮融资后,创锐光谱将持续加大研发投入力度,加速推进SiC晶圆缺陷检测、钙钛矿光伏面板检测等多种工业检测产品的市场导入, 实现批量出货目标。
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