半导体封锁下的国产力量：国产仪器公司怎么应对？有什么突破？

12月2日，美国商务部工业和安全局（BIS）更新了《出口管理条例》（EAR），将140个中国半导体行业相关实体纳入“实体清单”，限制中国在人工智能和先进半导体领域的发展。这是美国近三年来第三次对中国半导体行业实施限制措施。

被列入“实体清单”的企业，将面临无法采购美国生产的电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）的困境。而ICP-MS在半导体产业的多个核心环节中扮演着至关重要的角色，它广泛应用于材料检测、制程控制、性能测试、质量控制和研发支持等方面，是保障半导体产品质量的关键设备。

半导体器件的制造过程中对污染源的管理极为严格，特别是对晶圆、电子湿化学品、电子特气及靶材等核心原材料中的无机元素杂质含量需进行精密控制。因为即使是非常微量的杂质，也可能导致介质击穿电压降低，进而影响成品器件的电气性能，造成器件缺陷。为确保生产材料中的金属污染物浓度严格符合限制要求，在半导体器件的生产过程中，必须全程使用ICP-MS技术对无机元素杂质进行精确分析。

莱伯泰科是最早以半导体行业为导向研发生产ICP-MS的国产仪器企业之一。2021年5月，莱伯泰科隆重发布LabMS 3000单四极杆ICP-MS，剑指半导体行业，并于次年在国内半导体头部企业成功通过验证，引发了业界的广泛关注和热烈讨论。2023年3月，莱伯泰科再次发力，推出了LabMS 5000串联四极杆ICP-MS/MS，进一步提升了分析精度，降低了检出限，并在国内率先通过了SEMI S2认证，以更加卓越的性能深层次进军半导体行业。

莱伯泰科宣布进军半导体行业的时候，外界普遍持怀疑态度，认为这是一个很难成功的事情。因为半导体行业样品中的杂质元素含量通常处于ppt及亚ppt级别，使用ICP-MS分析时，等离子产生的氩离子以及待测样品基质均会带来严重的质谱干扰，影响测试精度及准确度。莱伯泰科持续攻坚，成功攻克了冷等离子技术与串联四极杆技术，并进一步优化了仪器的空白背景及可靠性，从而满足了半导体行业对样品中痕量元素分析的高标准需求，以及集成电路制造企业在安全规范与长期稳定运行方面的严苛要求。正是这份坚持与执着，莱伯泰科陆续成功推出LabMS 3000和LabMS 5000，在半导体行业国产替代的道路上稳步前行。从最初的质疑到如今的认可，莱伯泰科用实际行动诠释了“难，并不意味着不可能”。

如今，莱伯泰科自主研发的ICP-MS已成功进入我国多家芯片、光伏和面板头部生产企业，产品被广泛应用于硅材料、电子湿化学品、光刻胶、高纯PFA、CMP抛光液以及化合物半导体等多个半导体生产环节，为客户提供了精准、高效的解决方案。这些成绩的取得，不仅是对其技术实力的最好证明，更是对国产替代战略的积极响应和实践。即使面对外部限制，也能保持稳定发展。

莱伯泰科ICP-MS已进入的半导体行业应用领域

莱伯泰科凭借深厚的技术积累与产品优势，精心为半导体行业量身定制了《莱伯泰科半导体行业检测综合解决方案》。该方案不仅涵盖了先进的ICP-MS技术，还融入了广受行业好评的无机元素样品前处理技术及超净实验室建设工程服务。

这场科技冷战的序幕已经拉开，未来的走向充满了不确定性。面对这样的挑战，科学仪器行业也将面临重大挑战，国产仪器的自主发展变得尤为重要。在外部环境的压力下，行业需要加大力度进行自主研发和技术创新，加快实现国产化替代，以增强自身的国际竞争力。