| 仪器名称： | 多靶位磁控溅射系统 |
| 仪器编号： | 21012328 |
| 产地： | 美国 |
| 生产厂家： | 科特·莱斯科公司 |
| 型号： | PVD75 |
| 出厂日期： | |
| 购置日期： | 2021-07-12 |
| 所属单位： | 集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺 |
| 放置地点： | 微电子所新所一层微纳平台 |
| 固定电话： | 62781090 |
| 固定手机： | 13661079620 |
| 固定email： | douwz@tsinghua.edu.cn |
| 联系人： | 窦维治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn） |
| 分类标签： | 微纳加工 半导体工艺 磁控溅射 材料制备 |
| 技术指标： | 工艺腔配备冷泵，本底真空：10e-8 torr；成膜均匀性<3%；同时装载5个靶位；全自动传送片系统 |
| 知名用户： | 钱鹤教授，吴华强教授，陈炜教授，刘泽文教授。 |
| 技术团队： | 窦维治、韩冰、魏治乾 |
| 功能特色： | 该设备的特点如下：本底真空可达到10E-8Torr量级；基片温度可以控制在室温~800℃；可实现6英寸及以下尺寸的硅片的溅射镀膜；溅射镀膜的粘附性好，片内均匀性能够达到3%以下；可对多种材料进行溅射，与Lab18薄膜沉积系统靶材通用，目前主要有金属、氧化物和氮化物薄膜，包括Pt、Ti、Al、Cr、Hf、Ta、Nb、V、Ni、Co、Pd、Al2O3、HfO2、Ta2O5、Nb2O5、NbO2、IGZO、V2O5、TiN、W等 |
样品要求：
6英寸以下样品
预约说明：
实验室的设备采用网上预约的方式、以先约先用为基本原则
取消预约需提前2个小时通过网上取消预约
| 项目名称 | 计价单位 | 费用类别 | 价格 | 备注 |
|---|---|---|---|---|
| 自助上机机时费 | 元/小时 | 自主上机机时费 | 450.0 |