电工所科技前沿论坛“微光刻与电子束光刻技术”开讲

　　从1958年世界第一块平面集成电路到2012年04月24日英特尔在北京天文馆正式发布核心代号为Ivy Bridge的第三代酷睿处理器—英特尔首款22纳米工艺处理器，短短五十多年，微电子技术一直遵循着摩尔定律，发展势头迅猛。

　　针对微光刻与电子束光刻技术发展图谱，7月6日，中科院微电子所陈宝钦研究员做客电工所《科技前沿论坛》学术报告会，与电工所科研人员分享了一堂精彩的交流课。

　　作为全国半导体设备与材料标准化技术委员会副主任、微光刻分委会主任，全国纳米技术标准化技术委员会微纳加工技术工作组副秘书长，北京半导体专业委员会副主任、制版分会主任，陈宝钦研究员多年来一直从事光掩模与先进掩模制造技术、电子束光刻技术、微光刻与微纳米加工技术的研究和开发工作。

　　本次报告，陈宝钦研究员主要讲解了从1958年世界上出现第一块平面集成电路到20世纪80年代世界上集成电路制造进入自动化大生产，再到2012年英特尔首款22纳米工艺处理器诞生等微光刻与电子束光刻技术的发展历程与现状，讨论了微光刻与电子束光刻技术在纳米级高分辨微图形转移等方面所面临的挑战以及需要对应解决的图形数据处理、图形曝光和图形刻蚀等关键技术问题。报告详细介绍了国内外微光刻与微纳米加工技术发展历程、光学曝光技术、光学曝光分辨率增强技术及先进掩模技术、应用于微纳米制造的电子束直写技术及电子束极限光刻技术、微光刻图形数据处理技术与邻近效应校正技术、下一代光刻技术、传统和非传统的纳米制造技术等。

　　作为信息科学技术的基础与先导，微电子技术仍处在方兴未艾的急速发展之中，其发展推动着整个社会各行各业的进步。微电子技术工艺基础——微光刻与微/纳米加工技术，是人类迄今为止能够达到纳米级精度的加工技术，其加工设备和加工工艺也在不断发展以满足芯片加工从微米到纳米尺度的需求。一旦将电子元件作到纳米量级，其芯片的运行速度和内存都将大幅度提高，从而为未来的单电子计算机或纳米计算机的设计与实现开辟一条新的途径。