发布时间:2024-05-30 09:55 原文链接: 薄膜溅射沉积系统共享应用

仪器名称:薄膜溅射沉积系统
仪器编号:16041495
产地:中国
生产厂家:AJA
型号:ATC 2200-V
出厂日期:201605
购置日期:201612


所属单位:集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺
放置地点:微电子所新所一楼108
固定电话:
固定手机:
固定email:
联系人:窦维治(010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn)
韩英(010-62782076,18601218109,hanying@mail.tsinghua.edu.cn)
分类标签:微纳加工 磁控溅射 材料制备
技术指标:

本底真空:10e-8 torr;成膜均匀性<3%;同时装载5个靶位;

知名用户:吴华强、钱鹤、宋成、薛其坤
技术团队:

窦维治、韩冰、魏治乾

功能特色:

可用于制作铁磁材料薄膜、氧化物薄膜等

样品要求:

兼容4英寸、6英寸、8英寸圆片


预约说明:

实验室的设备采用网上预约的方式、以先约先用为基本原则

取消预约需提前2个小时通过网上取消预约

项目名称计价单位费用类别价格备注
薄膜沉积元/小时自主上机机时费450.0
送样元/小时测试费450.0