由中国物理学会质谱分会,北京雪迪龙科技股份有限公司联合主办,中国科学院上海应用物理研究所,分析测试百科网,中国仪器仪表学会分析仪器分会质谱仪器专家组协办的质析毫微·谱绘万象——半导体痕量成分检测技术交流会将于2025年7月17日在上海·中国科学院上海应用物理研究所学术交流中心举行。
当前全球半导体产业竞争已进入纳米级工艺时代,痕量杂质检测成为决定芯片性能、良品率及可靠性的核心环节。在单晶硅制备、光刻胶纯化、刻蚀气体分析等关键流程中,十亿分之一(ppb)甚至万亿分之一(ppt)级别的杂质都可能引发器件失效。二次离子质谱(SIMS)、气相色谱(GC)、ICP-MS、光腔衰荡光谱(CRDS)等尖端技术凭借原子级灵敏度与多维度分析能力,成为破解痕量成分检测难题的核心工具。
然而,我国高端科学仪器长期依赖进口,尤其在半导体领域,检测设备的自主可控面临严峻挑战:核心部件(如高亮度离子源、超精密质量分析器)受制于人,复杂场景下的算法模型尚待突破,设备稳定性与国际先进水平存在代际差距。随着国家《高端科学仪器自立自强专项行动》的推进,加速国产仪器技术迭代、构建产学研用协同创新链,已成为支撑半导体产业链安全的战略需求。
在此背景下,本次技术交流会以 “质析毫微·谱绘万象”为愿景,聚焦SIMS、GC、ICP-MS、CRDS等技术的国产化突破路径与产业化实践,汇聚学术界前沿成果与企业界工程经验,旨在打通“技术研发-场景验证-商业应用”闭环,为我国半导体检测技术自立自强注入新动能。
主办单位:
中国物理学会质谱分会
北京雪迪龙科技股份有限公司
协办单位:
中国科学院上海应用物理研究所
分析测试百科网
中国仪器仪表学会分析仪器分会质谱仪器专家组
会议时间:2025年7月17日(全天)
会议地点:中国科学院上海应用物理研究所学术交流中心(上海市)
会议主题:半导体痕量成分检测技术
拟邀对象:科研院所、高校专家学者,半导体产业链企业技术负责人,检测仪器研发精英等。
官网链接:https://c.antpedia.com/64426/introduction.html
一、会议亮点
★ 主题报告:行业专家分享技术前沿与实践案例
★ 专题研讨:产学研多方共议国产仪器技术升级路径
★ 交流对接:促进行业资源整合与合作
二、会议日程
| 时间 | 环节 | 拟邀嘉宾 |
| 08:30-09:00 | 签到注册 | 签到处 |
| 09:00-09:05 | 开幕致辞 | 学会领导 |
| 09:05-09:20 | 雪迪龙与上海应用物理研究所揭牌仪式 | 中科院上海应物所领导(5分钟) 雪迪龙领导(5分钟) |
| 09:20-09:50 | 报告1:《高端仪器国产化路径探索》 | 方 向 研究员 中国计量科学研究院 |
| 09:50-10:20 | 报告2:《从KORE到SDL:雪迪龙半导体解决方案》 | 张倩暄 副总工程师 雪迪龙 |
| 10:20-10:50 | 报告3:《SIMS在新能源材料领域应用》 | 汪福意 研究员 中国科学院化学研究所 |
| 10:50-11:00 | 茶歇 | |
| 11:00-11:30 | 报告4:《应物所SIMS平台特色与典型成果》 | 汪 雪 技术专家 中科院上海应物所 |
| 11:30-12:00 | 报告5:《TOF-SIMS-An essential technique for a modern surface science laboratory》 | Steve 技术专家 KORE |
| 12:00-13:30 | 午餐休息 | |
| 13:30-14:00 | 报告6:《The practical use of TOF-SIMS for solving problems in materials science》 | Fraser 技术专家 KORE |
| 14:00-14:30 | 报告7:《ICP-MS在半导体与集成电路领域应用》 | 汪 正 研究员 中科院上海硅酸盐研究所 |
| 14:30-15:00 | 报告8:《原位液相二次离子质谱及其新能源材料研发中的应用》 | 张燕燕 博士 中国科学院化学研究所 |
| 15:00-16:00 | 分组参观SIMS实验室 | |
| 16:00-17:00 | 闭门会议:《如何打破高端SIMS设备的“卡脖子"困局?》 | |
| 17:00 | 会议结束 | |
| 17:30-20:00 | 晚宴 |
三、会议联系人
刘会兰
电话:18942663827
邮箱:huilan_liu@antpedia.net
赵慧君
电话:17721272659
邮箱:huijun_zhao@antpedia.net
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中国物理学会质谱分会
北京雪迪龙科技股份有限公司
2025.6.27
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