高真空蒸发镀膜仪是全自动程序控制，彩色触摸屏界面，操作简单，它可以镀金（AU），铂（PT）和其他非氧化的贵金属，也可以镀铱（IR），铬（CR），铝（AL）和其他易氧化膜材料的细颗粒。它特别适用于场发射电子显微镜，透射电子显微镜和非晶碳熔覆/TEM网格支撑膜的样品制备，还可以为薄膜应用和其他材料领域提供理想的涂层平台。
高真空蒸发镀膜仪是一种多功能系统，具有灵活性和模块化扩展性，可适应不同的样品制备，它可用于从蒸笼和坩埚以及可选的溅射附件进行碳蒸发和金属蒸发。可以应用一系列行之有效的技术，包括碳镀层和TEM覆层，碳/金属蒸发，低角度和使用双源蒸发的顺序涂层，可选的溅射镀膜附件可应用于多种目标。它的设计让其操作更容易实现。
1、通过使用微处理器控制器增强了系统的灵活性，用户可以轻松添加各种选项。但是，这些“默认”操作已得到优化，因此自动和手动操作都可以实现操作。
2、独特的抽屉式样品装载系统，方便用户放入各种样品，铰链顶盖结构易于触及系统的其他区域。
3、涡轮分子泵安装在系统外部，高真空蒸发镀膜仪可以轻松安装和更换。它的前真空是旋转真空泵。整个泵送过程是全自动控制的，达到高真空后会蒸发。该仪器是台式的，使用中的疏忽很容易控制并且容易损坏。