高真空蒸发镀膜仪的设计让其操作更容易实现
高真空蒸发镀膜仪是全自动程序控制，彩色触摸屏界面，操作简单，它可以镀金（AU），铂（PT）和其他非氧化的贵金属，也可以镀铱（IR），铬（CR），铝（AL）和其他易氧化膜材料的细颗粒。它特别适用于场发射电子显微镜，透射电子显微镜和非晶碳熔覆/TEM网格支撑膜的样品制备，还可以为薄膜应用和其他材料领域提供理想的涂层平台。 高真空蒸发镀膜仪是一种多功能系统，具有灵活性和模块化扩展性，可适应不同的样品制备，它可用于从蒸笼和坩埚以及可选的溅射附件进行碳蒸发和金属蒸发。可以应用一系列行之有效的技术，包括碳镀层和TEM覆层，碳/金属蒸发，低角度和使用双源蒸发的顺序涂层，可选的溅射镀膜附件可应用于多种目标。它的设计让其操作更容易实现。 1、通过使用微处理器控制器增强了系统的灵活性，用户可以轻松添加各种选项。但是，这些“默认”操作已得到优化，因此自动和手动操作都可以实现操作。 2、独特的抽屉式样品装载系统，方便用户放入各种样品，铰链顶盖......阅读全文
高真空蒸发镀膜仪的设计让其操作更容易实现
高真空蒸发镀膜仪是全自动程序控制，彩色触摸屏界面，操作简单，它可以镀金（AU），铂（PT）和其他非氧化的贵金属，也可以镀铱（IR），铬（CR），铝（AL）和其他易氧化膜材料的细颗粒。它特别适用于场发射电子显微镜，透射电子显微镜和非晶碳熔覆/TEM网格支撑膜的样品制备，还可以为薄膜应用和其他材料领
高真空蒸发系统的功能
高真空电子束蒸发镀膜仪利用经过磁场偏转的高能量电子束对蒸发物料进行电子加热，蒸发材料挥发后沉积到样品表面，沉积成薄膜材料。 该设备可用于Ti、Au的高质量薄膜的制备，广泛应用于科学研究与半导体制造领域。
超高真空多靶磁控溅射镀膜仪
超高真空多靶磁控溅射镀膜仪是一种用于物理学领域的物理性能测试仪器，于2010年2月21日启用。 技术指标 双室磁控溅射系统，极限压力：主溅射室，6.67*10-6Pa，2、永磁靶5套，三个直流电源，两个射频电源，靶材直径60mm；3、6个样品工位，尺寸直径30mm，基片加热最高600度，退火
真空镀膜的概念
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。
与真空镀膜相比，离子镀膜有哪些优点
通过真空镀膜技术的应用,使塑料表面金属化,将有机材料和无机材料结合起来,大提高了它的物理、化学性能.其优点主要表现在：改善美观,表面光滑,金属光泽彩色化,装饰性大大提高；改善表面硬度,原塑胶表面比金属软而易受损害,通过真空镀膜,硬度及耐磨性大大增加；提高耐候性,一般塑料在室外老化很快,主要原因是紫外
真空镀膜的技术分类
真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时
真空镀膜的方法介绍
真空镀膜的方法很多，计有：(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000
真空镀膜技术分类
真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时
真空金属镀膜（VMD）技术浅谈
真空金属镀膜技术 在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体上凝固并沉积的方法称为真空镀膜，目前在工业领域应用较多的为真空蒸镀和溅射镀膜两种镀膜技术。真空镀膜技术真正应用是在1930年油扩散泵和机械泵技术推出后。1935年研制出采用真空沉积技术的减反射膜，并在1945年应用于眼镜
真空镀膜的常用方法
(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放