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成形电子束曝光系统按束斑性质可分成固定和可变成形束系统。固定成形束系统在曝光时束斑形状和尺寸始终不变；可变成形束系统在曝光时束斑形状和尺寸可不断变化。按扫描方式，成形电子束曝光系统又可分为矢量扫描型和光栅扫描型。一种尺寸可变的矩形束斑的形成原理是电子束经上方光阑后形成一束方形电子束，再照射到下方方孔光阑上。在偏转器上加上不同的电压，就能改变穿过下方孔光阑的矩形束斑的尺寸，形成可变的矩形束斑；采用特殊设计的成形光阑，还可形成三角形、梯形、圆形及多边形等成形电子束。成型束的最小分辨率一般大于100nm，但曝光效率高，广泛用于微米、亚微米及深亚微米的曝光领域，如用于掩模版制作和小批量器件生产等。......阅读全文
3、基于硅的MICROFLUIDICS设备硅已经成为制造MICROFLUIDICS通道的优选衬底，因为它具有对各种条件的高耐受性以及低的键合温度要求。此外，使用硅作为MICROFLUIDICS中的平台不仅使器件小型化，而且在设计部分提供了灵活性。3.1基于硅的MICROFLUIDICS器件的制造制造