| 仪器名称： | MA6双面光刻机 |
| 仪器编号： | 00011041 |
| 产地： | 德国 |
| 生产厂家： | Karl Suss |
| 型号： | MA6 |
| 出厂日期： | 199907 |
| 购置日期： | 200010 |
| 所属单位： | 集成电路学院>微纳加工平台>光刻工艺 |
| 放置地点： | 微电子所新所一楼微纳平台光刻间 |
| 固定电话： | |
| 固定手机： | |
| 固定email： | |
| 联系人： | 窦维治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn） 王喆垚（010-62772748,13552821122,z.wang@tsinghua.edu.cn） |
| 分类标签： | 集成电路 半导体 微纳加工 光刻 |
| 技术指标： | 对准精度2微米 |
| 知名用户： | 北京大学、中科院电子所 |
| 技术团队： | 教授1人、副教授1人、工程师1人 |
| 功能特色： | 本设备可进行双面对准和曝光，双面对准精度2微米，可对30um以下厚胶曝光。硅片尺寸为5英寸、4英寸、3英寸。另外可以进行SU-8等厚胶光刻。 |
样品要求：
| 单片式；硅片尺寸：5英寸、4英寸、3英寸 |
预约说明：
实验室的设备采用网上预约的方式、以先约先用为基本原则
取消预约需提前2个小时通过网上取消预约
| 项目名称 | 计价单位 | 费用类别 | 价格 | 备注 |
|---|---|---|---|---|
| 厚胶光刻 | 元/小时 | 自主上机机时费 | 600.0 |