等离子发生器能喷涂高质量薄膜
俄罗斯莫斯科工程物理学院（NRNUMEPhI）的科学家在《表面与涂层技术》杂志上发表的文章中称，他们研制出能在熔融材料的蒸汽中产生强电流脉冲磁控放电的等离子发生器。新技术能更快地喷涂出高质量的薄膜。 磁控溅射是对使用节能涂层材料的建筑物玻璃进行沉淀的唯一方法，可将能显著提高性能的硬涂层喷射到切割工具上。在微电子学中，这种办法被用于集成电路板的金属化；在光学中，可用来生产滤光器；也可用来生产疏水涂层。新研制的等离子发生器由等离子接头和电源组成，在特殊的磁控放电模式下工作，在这些模式下能发挥熔融材料的强烈蒸汽作用，以此形成涂料。 该校等离子物理教研室研究员亚历山大·杜马尔金说：“在零件上的薄膜慢速增长与真空蒸发，长期以来一直都是磁控溅射技术的难题。新技术成功地将两种技术的优点合二为一。我们已经学会在保证质量情况下的高速溅射。” 莫斯科工程物理学院等离子物理教研室的科学研究员安德烈·卡奇耶夫说：“设备的工业样品和用于生......阅读全文
电工所利用放电等离子体技术提升储能电容器薄膜性能
近日，中国科学院电工研究所研究员邵涛团队利用放电等离子体提升储能电容器薄膜性能获进展。基于该团队在气体放电机理、参数调控及材料改性应用等方面的积累，该研究通过气体放电驱动准分子深紫外光源，在常压空气中辐照商业电容器薄膜，仅一步处理显著提升薄膜击穿电场、储能密度等性能，对突破国产储能电容器薄膜性能瓶颈
我国发现表面绝缘衬底PECVD法制备无需转移单层石墨烯
大面积、高质量石墨烯在传感器和透明导电应用方面有着重大需求，而化学气相沉积法是一种被广泛应用在金属催化剂上生长石墨烯薄膜的方法。然而，由于石墨烯和金属之间有着不同的热膨胀系数（Cu：2.6×10-5/ ℃， graphene：-2.0×10-6/ ℃），生长过程中难免会产生皱纹和裂缝，降低单层石
根据获得等离子体的手段不同可以将发生器分为几类？
发生器有电弧等离子体发生器（又称等离子体喷枪、电弧加热器）、工频电弧等离子体发生器、高频感应等离子体发生器、低气压等离子体发生器、燃烧等离子体发生器五类。
按不同放电类型等离子体发生器可分为那些类型？
在科学技术和工业领域应用较多的发生器有电弧等离子体发生器（又称等离子体喷枪、电弧加热器）、工频电弧等离子体发生器、高频感应等离子体发生器、低气压等离子体发生器、燃烧等离子体发生器五类。最典型的为电弧、高频感应、低气压等离子体发生器三类。它们的放电特性分别属于弧光放电、高频感应弧光放电和辉光放电等类型
低气压等离子体发生器有哪几个部分组成？
低气压等离子体发生器 一般由三部分组成：产生等离子体的电源、放电室、抽真空系统和工作气（或反应气）供给系统。
在科学技术和工业领域等离子体发生器有哪些种类？
在科学技术和工业领域应用较多的发生器有电弧等离子体发生器（又称等离子体喷枪、电弧加热器）、工频电弧等离子体发生器、高频感应等离子体发生器、低气压等离子体发生器、燃烧等离子体发生器五类。最典型的为电弧、高频感应、低气压等离子体发生器三类。它们的放电特性分别属于弧光放电、高频感应弧光放电和辉光放电等类型
薄膜测厚仪
薄膜测厚仪 型号：CHY-CACHY-CA薄膜测厚仪采用机械接触式测量方式，严格符合标准要求，有效保证了测试的规范性和准确性。专业适用于量程范围内的塑料薄膜、薄片、隔膜、纸张、箔片、硅片等各种材料的厚度测量。 ◆ 严格按照标准设计的接触面积和测量压力，同时支持用户的各种非标定制 ◆ 测试过程
薄膜测量
薄膜测量薄膜测量系统是基于白光干涉的原理来确定光学薄膜的厚度。白光干涉图样通过数学函数被计算出薄膜厚度。对于单层膜来说，如果已知薄膜介质的n和k值就可以计算出它的物理厚度。 AvaSoft-Thinfilm应用软件内包含有一个大部分常用材料和膜层n和k值的内置数据库。 AvaSoft-Thi
薄膜测量
薄膜测量薄膜测量系统是基于白光干涉的原理来确定光学薄膜的厚度。白光干涉图样通过数学函数被计算出薄膜厚度。对于单层膜来说，如果已知薄膜介质的n和k值就可以计算出它的物理厚度。 AvaSoft-Thinfilm应用软件内包含有一个大部分常用材料和膜层n和k值的内置数据库。 AvaSoft-Thi
xrd薄膜法能够测定薄膜什么性质
不知道你所说的薄膜法指什么.一般对于薄膜材料,XRD能够做:掠入射(GIXRD): 分析晶态薄膜物相,残余应力反射率测量(XRR): 对膜质量要求较高,晶态非晶皆可.一般分析纳米级别薄膜的厚度,深入一点可通过拟合的方法来分析密度,表面界面的粗糙度掠入射小角散射(GISAXS): 分
薄膜拉力试验薄膜拉伸测试仪
薄膜拉力试验薄膜拉伸测试仪拉伸、撕裂、剥离等力学性能，当使用反向器时，可进行材料的压缩试验。 本机是一种新型经济性电子拉力试验机，配备力传感器,在试验过程中，微机不断采集力传感器的信号，并根据试验要求，进行格式化数据处理，其特点是使用简单，性能稳定，技术先进，自动化水平高，测试精度高。 2 主要技术
等离子体光谱诊断
薄膜材料因其在多个方面的优异性能，使得应用十分广泛，薄膜的制备有多种方法，磁控溅射法是当今制备薄膜比较常用的一种方法。而用磁控溅射法制备出高质量薄膜的关键是薄膜生长过程中的工艺参数选择与稳定性控制。为此在薄膜生长中的工艺参数对薄膜的各种性能影响方面做了大量探讨与研究，如采用真空溅射镀膜技术在镍锌铁氧
等离子体光谱诊断解决方案
薄膜材料因其在多个方面的性能，使得应用十分广泛，薄膜的制备有多种方法，磁控溅射法是当今制备薄膜比较常用的一种方法。而用磁控溅射法制备出高质量薄膜的关键是薄膜生长过程中的工艺参数选择与稳定性控制。为此在薄膜生长中的工艺参数对薄膜的各种性能影响方面做了 探讨与研究，如采用真空溅射镀膜技术在镍锌铁氧基片上
PRL－邱祥冈韩秀峰李志远等－表面等离子体研究
中科院物理所超导国家重点实验室邱祥冈研究员领导的研究小组，通过与磁学国家重点实验室韩秀峰研究员以及光物理重点实验室李志远研究员合作，在具有周期性孔阵列的金属薄膜上成功地对单个金属/电介质界面的表面等离子体现象进行了研究，观察到了表面等离子体在亚波长增强透射中高阶的共振峰，并首次观察到了TE模式入射光
Protoflex公司总裁莅临铂悦仪器拜访考察
Protoflex公司总裁Pawan Bhat Ph.D.莅临铂悦仪器拜访考察，为我们的销售团队展开为期3天的技术培训，并且针对长期合作及市场开拓进行深刻探讨，详细介绍了QE、IV、PECVD、PVD设备，为太阳能、LED、半导体、微电子、能源、显示和照明等行业提供
表面等离子共振的等离子波
等离子体通常指由密度相当高的自由正、负电荷组成的气体，其中正、负带电粒子数目几乎相等。把金属表面的价电子看成是均匀正电荷背景下运动的电子气体，这实际上也是一种等离子体。当金属受电磁干扰时，金属内部的电子密度分布会变得不均匀。因为库仑力的存在，会将部分电子吸引到正电荷过剩的区域，被吸引的电子由于获
其他薄膜沉积设备的薄膜沉积技术分类
薄膜沉积技术可以分为化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）。对于CVD工艺，这包括原子层沉积（ALD）和等离子体增强化学气相沉积（PECVD）。PVD沉积技术包括溅射，电子束和热蒸发。CVD工艺包括使用等离子体将源材料与一种或多种挥发性前驱物混合以化学相互作用并使源材料分解。该工艺使用较
高精薄膜厚度测厚仪薄膜企业必备仪器
薄膜测厚仪中的高精薄膜厚度测厚仪的适用范围很广，可以测量的塑料、金属、涂层材料等多种材料的厚度，是我们设计制作物品的测量工具，帮助我们判断物体的质量是否合格，而且还能帮助我们节约物体设计制作成本，可以说购买了高精度薄膜厚度测厚仪就是提高了物体设计制作的质量。 高精薄膜厚度测厚仪 济南辰驰
等离子体科学与技术
等离子体是物质存在的第四种形态，处于比气态更高的能量状态。等离子体科学是二十世纪形成和发展的新兴学科：等离子体物理（1927年）；等离子体化学（1967年）；等离子体材料科学（1988年）。科学技术是*生产力，等离子体科学的迅速发展促进了等离子体应用技术在各个工业领域的日益广泛应用，并正在深刻地
原子层沉积
原子层沉积(ALD)是一种真正的"纳米"技术，以精确控制的方式沉积几个纳米的超薄薄膜。 原子层沉积的两个限定性特征--自约束的原子逐层生长和高度保形镀膜--给半导体工程，微机电系统和其他纳米技术应用提供了许多好处。 原子层沉积的优点 因为原子层沉积工艺在每个周期内精确地沉积一个原子层，所以能
等离子清洗机安全操作规程
等离子清洗机安全操作规程： 1、发生器背面应留有足够的散热空间。 2、确保机器有良好的接地，以避免人身伤害事故。 3、清洗过程中必须戴绝缘手套，不要将手指浸入清洗液中。 4、作业完毕，切断电源，清理掉设备上的脏物，保证机器的清洁。 5、清洗液不得呈强酸或强碱性，在没有可靠的安
薄膜参考板
薄膜参考板当我们测量很薄的硅晶圆或光学板层时可以使用我们的硅-二氧化硅参考晶圆。硅-二氧化硅阶梯形晶圆的表面直径是100mm，有5种不同厚度的校正镀层分布在上面从0-500nm，用于测量膜厚和不同基底的透射层是理想的参比标准。步进板由很薄的二氧化硅片镀在硅片上所构成。校正数据—硅板经过椭
薄膜拉伸强度
单位截面薄膜在拉伸断裂时的拉力，简单的说就是按照规定形状取样后，薄膜在拉力机上被拉断时所收到的力，一般分为纵向与横向。拉伸强度的大小直观上可以用手进行测试，拉伸强度大的薄膜不容易被拉伸变形
薄膜测量配置
薄膜测量常用配置光谱仪 AvaSpec-2048光谱仪，UA光栅（200-1100 nm），DUV镀膜，DCL-UV/VIS灵敏度增强透镜， 100 µm狭缝，OSC-UA消二阶衍射效应镀膜测量膜厚范围 10 nm - 50 µm，1 nm分辨率软件 AvaSoft-Thinfilm应用软
安捷伦、杭州谱育共享17台海关总署ICPOES采购需求
分析测试百科网讯 近日，海关总署2019年电感耦合等离子体发射光谱仪采购项目（项目编号：HG19GK-A0000-D089） 组织评标工作已经结束，安捷伦、杭州谱育共享17台ICP-OES采购需求，具体详情如下： 项目编号：HG19GK-A0000-D089 项目名称：海关总署2019年电感
海关总署公布ICPOES采购结果－总价813.1万！
“海关总署2019年电感耦合等离子体发射光谱仪采购项目”项目（项目编号：HG19GK-A0000-D089） 组织评标工作已经结束，现将评标结果公示如下： 项目编号：HG19GK-A0000-D089 项目名称：海关总署2019年电感耦合等离子体发射光谱仪采购项目 总中标金额：813.1
原子发射光谱常用光源原理及维护
光源作为原子发射光谱仪主要部件之一，是决定光谱分析灵敏度和准确度的重要因素，它分为电弧光源、火花光源以及近年发展的电感耦合等离子体光源和辉光放电光源。各光源的原理和特点又是什么呢? 原子发射光谱仪由光源、分光系统、检测系统和数据处理系统四个部分组成。而光源是光谱仪检测最主要的部分之一，光源的作
全固态薄膜锂电池正极薄膜的研究
薄膜锂电池的正极材料初期主要是Ti2S3、MoS2、MnO₂等，随后被电位更高的正极材料代替，如V2O3、LiCoO2、LiNiO2、LiMn2O4。薄膜制备技术也从初期的蒸镀、旋涂、溅射等技术不断完善增加。 钒氧化物和钒酸锂类正极材料一直是正极材料研究的重要方向，其作为薄膜锂电池的正极材料具
全固态薄膜锂电池负极薄膜的研究
全固态薄膜锂电池的负极薄膜目前多采用金属锂薄膜。 金属锂具有电位低、比容量高等优点，而其安全性差、充放电形变大的缺点由于薄膜电极很薄而近于忽略，但考虑到全固态薄膜锂电池未来在微电子方面的用途，采用锂薄膜作为负极不能耐受回流焊的加热温度（锂熔点l80.5℃，回流焊温度245℃），因此，薄膜锂电池
匹配器对等离子清洗机放电有很大影响？快来认识它!
等离子清洗机不放电或者放电不稳定是什么原因导致的？答案往往是因为等离子发生器和阻抗匹配有问题。当等离子发生器进行能量传输时，如果反应腔体和电极（以下简称负载）阻抗和传输线的特征阻抗不相等，就易在传输过程中形成反射，有部分能量就会因发热等方式而损失，而非全部被负载吸收，如此一来就会直接影响等离子表