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简析激光器的种类与应用

激光被誉为“最准的尺”、“最快的刀”、“最亮的光”,是二十世纪与计算机技术、原子能技术、半导体技术并称的四大发明之一。目前,激光因为其极具优势的特性被广泛应用于各行各业,包括钣金切割、工业制造、食品医疗、航空航天等等。随着以新能源汽车为代表高新制造业蓬勃发展,激光技术获得了更为宽广的发挥空间。 目前,光纤激光器在工业加工领域扮演了极为关键的角色,特别是在高功率激光加工中。不同类型激光器,在特性上存在差异,因而在不同行业领域中适用性各不相同。那么我们就来区分一下激光的种类和应用吧。 激光的种类 按照工作物质进行划分 激光器可以分为: 1 气体激光器,包括了CO2激光器、He-Ne激光器等; 2 以液体染料作为泵浦源的液体激光器; 3 固体激光器,Nd:YAG、Nd:YVO4、Yb:YLP:; 4 半导体激光器 等等。 按照工作方式进行区分 分为连续型激光器和脉冲型激光器。 按照基本工作原理进行区分......阅读全文

激光器有哪些特点 激光器特点介绍

  激光器的特点有哪些?  光纤激光器近几年倍受关注,成为大家研究的重点,这是因为它早有其它激光器所无法比拟的优点,主要表现在:  (1) 光束质量好,具有非常好的单色性、方向性和稳定性;  (2) 光纤既是激光增益介质又是光的导波介质,因此泵浦光的祸合效率相当的高,纤芯直径小,纤内易形成高功率密度

固体激光器与气体激光器的区别

  许多不同种类的激光器和激光系统。问题在于如何针对具体应用,选择最合适的激光技术,以提供最好的解决方案。事实上,没有哪种激光技术可以覆盖所有的需求,即便未来的发展也不能改变这个事实:选择使用哪种激光器是由具体应用来决定的。这归结于对于给定的任务,利用什么样的激光器能得到最好的结果。如今中国的激光器

激光器结构原理是什么 激光器结构原理介绍

  1、激光介质可以是气体、液体、固体和半导体,要求存在亚稳态能级为实现粒子数反转之必要条件;现有工作介质近千种,可以产生的激光波长从真空紫外到远红外,非常广泛;  2、激励源使介质出现粒子数反转。可以是电激励、光激励、热激励、化学激励等等。电激励用气体放电的方法去激励介质原子;各种激励方式又被形象

导激光器简介

固体、液体、气体、半导体等工作物质都可以做成波导激光器,其中较为成熟的是CO₂波导激光器。CO₂激光器的波导管是内径很细(约1nm)、内表面很光滑的空心导管,可以是圆形或方形,通常用氧化铍(BeO)陶瓷做成。波导管只允许低阶模通过,对高阶模的损耗很大,故输出激光的光束质量很好。CO₂波导激光器的工作

fLaser 光纤激光器

fLaser 光纤激光器        针对光纤光谱仪开发 / 小功率 & 高稳定 / 荧光 & 拉曼专用               fLaser 光纤激光器 针对光纤光谱系统开发,默认 50 / 100μm 芯径光纤输出,已满足多数实验需要。同时,fLaser 提供 3 种常见 Rama

激光器的分类

  可调谐激光器  可调谐激光器tunable laser 是指在一定范围内可以连续改变激光输出波长的激光器(见激光)。这种激光器的用途广泛,可用于光谱学、光化学、医学、生物学、集成光学、污染监测、半导体材料加工、信息处理和通信等。  单模激光器  输出为单横模(一般为基模)、多纵模的激光器。  化

气体激光器分类

气体激光器分为原子气体激光器、离子气体激光器、分子气体激光器和准分子激光器。它们工作在很宽的波长范围,从真空紫外到远红外,既可以连续方式工作,也可以脉冲方式工作。原子气体激光器包括各种惰性气体激光器和各种金属蒸气激光器,如氦氖激光器和铜蒸气激光器。其中氦氖激光器是最早研究成功的,并且仍在普遍使用。它

激光器的分类

根据工作物质物态的不同可把所有的激光器分为以下几大类:①固体激光器(晶体和玻璃),这类激光器所采用的工作物质,是通过把能够产生受激辐射作用的金属离子掺入晶体或玻璃基质中构成发光中心而制成的;②气体激光器,它们所采用的工作物质是气体,并且根据气体中真正产生受激发射作用之工作粒子性质的不同,而进一步区分

气体激光器分类

  气体激光器分为原子气体激光器、离子气体激光器、分子气体激光器和准分子激光器。它们工作在很宽的波长范围,从真空紫外到远红外,既可以连续方式工作,也可以脉冲方式工作。  原子气体激光器  包括各种惰性气体激光器和各种金属蒸气激光器,如氦氖激光器和铜蒸气激光器。其中氦氖激光器是最早研究成功的,并且仍在

激光器的结构

激光器一般包括三个部分。1、激光工作介质激光的产生必须选择合适的工作介质,可以是气体、液体、固体或半导体。在这种介质中可以实现粒子数反转,以制造获得激光的必要条件。显然亚稳态能级的存在,对实现粒子数反转世非常有利的。产生的激光波长包括从真空紫外道远红外,非常广泛。2、激励源为了使工作介质中出现粒子数