发布时间:2018-11-20 00:21 原文链接: ICPMS、ICPAES及AAS有何异同?

诱人的ICP-AES的流行使很多的分析家在问购买一台ICP-AES是否是明智之举,还是留在原来可信赖的AAS上。现在一个新技术ICP-MS已呈现在世上,虽然价格较高,但ICP-MS具有ICP-AES的优点及比石墨炉原子吸收(GFAAS)更低的检出限。

这篇文章简要地论述这三种技术,并指出如何根据你的分析任务来判断其适用性的主要标准。

对于拥有ICP-AES技术背景的人来讲,ICP-MS是一个以质谱仪作为检测器的等离子体(ICP),而质谱学家则认为ICP-MS是一个以ICP为源的质谱仪。事实上,ICP-AES和ICP-MS的进样部分及等离子体是及其相似的。ICP-AES测量的是光学光谱(165-800nm),ICP-MS测量的是离子质谱,提供在3-250amu范围内每一个原子质量单位(amu)的信息,因此,ICP-MS除了元素含量测定外,还可测量同位素。

检出限

ICP-MS的检出限给人极深刻的印象,其溶液的检出限大部份为ppt级(必需记牢,实际的检出限不可能优于你实验室的清洁条件),石墨炉AAS的检出限为亚ppb级,ICP-AES大部份元素的检出限为1-10ppb,一些元素在洁净的试样中也可得到令人注目的亚ppb级的检出限。必须指出,ICP-MS的ppt级检出限是针对溶液中溶解物质很少的单纯溶液而言的,若涉及固体中浓度的检出限,由于ICP-MS的耐盐量较差,ICP-MS检出限的优点会变差多达50倍,一些普通的轻元素(如S、Ca、Fe、K、Se)在ICP-MS中有严重的干扰,也将恶化其检出限。

干扰

以上三种技术呈现了不同类型及复杂的干扰问题,为此,我们对每个技术分别予以讨论。

ICP-MS的干扰

1.质谱干扰

ICP-MS中质谱的干扰(同量异位素干扰)是预知的,而且其数量少于300个,分辩率为0.8amu的质谱仪不能将它们分辩开,例如58Ni对58Fe、40Ar对40Ca、40Ar16O对56Fe或40Ar-Ar对80Se的干扰(质谱叠加)。元素校正方程式(与ICP-AES中干扰谱线校正相同的原理)可用来进行校正,选择性地选用一些低自然丰度的同位素、采用“冷等离子体炬焰屏蔽技术”或“碰撞池技术”可有效地降低干扰影响。

2.基体酸干扰

必须指出,HCl、HClO4、H3PO4和H2SO4将引起相当大的质谱干扰。Cl+、P+、S+离子将与其他基体元素Ar+、O+、H+结合生成多原子,例如35Cl40Ar对75As、35Cl16O对51V的叠加干扰。因此在ICP-MS的许多分析中避免使用HCl、HClO4、H3PO4和H2SO4是至关重要的,但这是不可能的。克服这个问题的方法有:“碰撞池技术”、在试样导入ICP之前使用色谱(微栓)分离、电热蒸发(ETV)技术等,另外一个比较昂贵的选择是使用高分辩率的扇形磁场的ICP-MS,它具有分辩小于0.01amu的能力,可以清除许多质谱的干扰。

ICP-MS分析用的试液通常用硝酸来配制。

3.双电荷离子干扰

双电荷离子产生的质谱干扰是单电荷离子M/Z的一半,例如138Ba2+69Ga+,或208Pb2+104Ru+。这类干扰是比较少的,而且可以在进行分析前将系统最佳化而有效地消除。

4.基体效应

试液与标准溶液粘度的差别将改变各个溶液产生气溶胶的效率,采用基体匹配法或内标法可有效地消除。

5.电离干扰

电离干扰是由于试样中含有高浓度的第I族和第II族元素而产生的,采用基体匹配、稀释试样、标准加入法、同位素稀释法、萃取或用色谱分离等措施来解决是有效的。

6.空间电荷效应

空间电荷效应主要发生在截取锥的后面,在此处的净电荷密度明显的偏离了零。高的离子密度导致离子束中的离子之间的相互作用,形成重离子存在时首先损失掉轻离子,例如Pb+对Li+3。基体匹配或仔细在被测物质的质量范围内选用内标有助于补尝这个影响,但这在实际应用是有困难的。同位素稀释法虽有效,但费用高,简单而最有效的方法是稀释样品。

ICP-AES干扰

1.光谱干扰

ICP-AES的光谱干扰其数量很大而较难解决,有记录的ICP-AES的光谱谱线有50000多条,而且基体能引起相当多的问题。因此,对某些样品例如钢铁、化工产品及岩石的分析必须使用高分辩率的光谱仪。广泛应用于固定通道ICP-AES中的干扰元素校正能得到有限度的成功。ICP-AES中的背景较高,需离线背景校正,应用动态背景校正对增进准确度是很有效的。各种分子粒子(如OH)的谱峰或谱带对某些低含量的被测元素会引起一些分析问题,影响其在实际样品中检出限。

在ICP-MS中的背景是相当低的,典型的是小于5C/S(计数/秒),这就是ICP-MS具有极好的检出限的一个主要理由。

2.基体效应

与ICP-MS一样,ICP-AES可以应用内标来解决例如雾化室效应、试样与标准溶液之间粘度差异所带来的基体效应。

3.电离干扰

仔细选用每个元素的分析条件或加入电离缓衡剂(如过量的I族元素)可以减少易电离元素的影响。

GFAAS干扰

1.光谱干扰

使用氘灯背景校正的GFAAS有少许光谱干扰,但使用Zeeman背景校正的GFAAS能去除这些干扰。

2.背景干扰

在原子化过程中,针对不同的基体,应仔细设定灰化步聚的条件以减少背景信号。采用基体改进剂有助于增加可以容许的灰化温度。在很多GFAAS应用中,与氘灯扣背景相比,Zeeman扣背景可得到更好的准确度。

3.气相干扰

这是由于被测物质的原子蒸汽进入一个较冷的气体环境而形成的。现在采用等温石墨管设计和平台技术,试样被原子化后进入一个热的惰性气体环境,可有效减少这种干扰。

4.基体效应

基体效应是被测物质在石墨管上不同的残留而生成的,它取决于样品的种类,应用基体改性剂和热注射能十分有效地减少这些影响。

容易使用

在日常工作中,从自动化来讲,ICP-AES是最成熟的,可由技术不熟练的人员来应用ICP-AES专家制定的方法进行工作。ICP-MS的操作直到现在仍较为复杂,自1993年以来,尽管在计算机控制和智能化软件方面有很大的进步,但在常规分析前仍需由技术人员进行精密调整,ICP-MS的方法研究也是很复杂及耗时的工作。GFAAS的常规工作虽然是比较容易的,但制定方法仍需要相当熟练的技术。

相关文章

20222023年ICPMS新品国产纷纷推出高端型号

    分析测试百科网讯ICP-MS领域,近年来出现了很多新品,近年来的主要特点包括:1、减少氩气消耗的同时,提升灵敏度。2、强调智能化,并结合自动进样器高通量......

莱伯泰科公布全谱直读ICP光谱仪等在研项目

莱伯泰科3月6日发布投资者关系活动记录表,公司于2024年3月1日接受1家机构调研,机构类型为基金公司。投资者关系活动主要内容介绍:问:请问公司的仪器产品的主要分类有哪些?答:公司仪器产品主要分为样品......

预算1100万元!该市生态环境局采购这些分析仪器

近日,铜仁市生态环境局企业信息就铜仁市生态环境监测站监测能力建设仪器设备采购项目进行公开招标,预算金额:1100万元,并于2024年02月20日09:30开标。一、项目基本情况项目编号:GZZT--2......

咖啡鉴定黑科技!ICPMS的应用

近日科学杂志《FoodChemsitry》上发布了一篇名为Aone-classclassificationapproachforauthenticationofspecialtycoffeesbyin......

XRF和ICPMS测定风成沉积铜镍锌等9种重金属元素的对比分析

作者简介曾方明(1982 -),男,博士,副研究员,主要研究方向为风成沉积与环境变化。Email:fmzeng@163.com;fmzeng@isl.ac.cn。通信作者曾方明(1982&n......

XRF和ICPMS测定风成沉积铜镍锌等9种重金属元素的对比分析

作者简介曾方明(1982 -),男,博士,副研究员,主要研究方向为风成沉积与环境变化。Email:fmzeng@163.com;fmzeng@isl.ac.cn。通信作者曾方明(1982&n......

遥遥领先!谱育质谱第1000套ICPMS、500套LCMS/MS下线

据悉,2023年12月,杭州谱育科技发展有限公司(以下简称“谱育科技”)青山湖创新基地迎来了第1000套7000系列ICP-MS、第500套5200系列LC-MS/MS正式下线。这标志着,中国高端质谱......

PlasmaQuant®MS分析芯片制造过程中清洗液中的磷

在半导体行业需要应用ICP-MS监测芯片制造过程中的清洗液中磷的含量。磷的质荷比为31,会受到N15O16、Si28H1、N14O16H1等多原子离子的干扰,以至于背景信号特别高,检出限难以满足要求。......

PlasmaQuant®MS分析晶圆表面金属杂质

分析背景简介硅片是半导体制造业的基础材料,硅片表面及少量的金属污染都可能导致器件功能的失效,所以硅片表面金属杂质测试是不可或缺的步骤。VPD跟ICPMS联用检测硅片表面金属杂质是目前最常见的一种手段。......

甘肃稀土检测中心7月采购ICPMS等

2023年7月17日,甘肃稀土检测中心发布7月零星计划仪器校检竞价采购计划,采购激光粒度仪、ICP-MS等产品,详情如下:项目编号:CG2023071700060采购商:甘肃稀土新材料股份有限公司发布......