芯源公司“集束型匀胶显影设备”获辽宁优秀新产品二等奖
芯源公司“集束型匀胶显影设备”获辽宁省优秀新产品二等奖 近日，经第八届辽宁省优秀新产品奖评审委员会审查，省政府批准，中科院沈阳自动化研究所持股公司芯源公司申报的“集束型匀胶显影设备”被授予辽宁省优秀新产品二等奖。在本届辽宁省新产品评选中，共有31项产品获得一等奖，二等奖59项。评选省级优秀新产品奖旨在鼓励和支持企业研制开发技术含量高、附加值高的新产品，掌握具有自主知识产权的新技术，推进企业技术进步，加速全省产品结构优化和产业升级。 沈阳自动化所持股公司—芯源公司的主导产品匀胶显影设备是集成电路制造关键设备之一，其作用是在晶圆上涂敷光刻胶，与光刻机配合，曝光后显影，保证掩膜版图形的正确转印。在芯源公司创建之前，国内的匀胶显影设备处于6英寸0.5微米技术等级。芯源公司通过引进消化与集成创新，拥有了完全自主知识产权的整机技术，研制的8英寸匀胶显影设备可满足0.25，0.18，0.13微米集成电路制造工艺，填补了国......阅读全文
芯源公司“集束型匀胶显影设备”获辽宁优秀新产品二等奖
芯源公司“集束型匀胶显影设备”获辽宁省优秀新产品二等奖 近日，经第八届辽宁省优秀新产品奖评审委员会审查，省政府批准，中科院沈阳自动化研究所持股公司芯源公司申报的“集束型匀胶显影设备”被授予辽宁省优秀新产品二等奖。在本届辽宁省新产品评选中，共有31项产品获得一等奖，二等奖59项。评选省
全自动匀胶显影系统简介
全自动匀胶显影系统是一种用于信息科学与系统科学、物理学、工程与技术科学基础学科、材料科学领域的工艺试验仪器，于2019年12月5日启用。 技术指标 衬底支持：4英寸，6英寸基片。7个可独立进行控温的热板，高精度热板温度精度+/-0.2℃。匀胶单元每个Cup配置4条光刻胶管路，具备背洗、边缘清
300mm晶圆匀胶显影设备研发成功
4月14日，“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”国家科技重大专项“300mm晶圆匀胶显影设备研发”任务圆满完成，突破了193nm光刻工艺超薄胶膜均匀涂敷等多项关键核心技术，成功研制出具有自主知识产权的300mm晶圆匀胶显影设备考核测试机和上线示范应用机，并在项目实施期间销售5台匀胶显影设备。
什么叫正胶显影和负胶显影
正胶显影：正性光刻胶的曝光区的光刻胶在显影液中溶解，在光刻胶上形成三维图形。负胶显影：在负性光刻胶的非曝光区的光刻胶在显影液中溶解，在光刻胶上形成三维图形。正胶具有很好的对比度，所以生成的图形具有良好的分辨率，其他特性如，台阶覆盖好、对比度好；粘附性差、抗刻蚀能力差、高成本。负胶的特性为，具有良好的
匀胶机
旋转涂层机/匀胶机/匀胶仪旋涂仪/甩胶机/旋涂机 型号:MHY-26227产品简介：MHY-26227高性能匀胶机旋涂仪 主要用于液体，胶体在材料表面形成薄膜。 MHY-26227高性能匀胶机旋涂仪 适用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷，不锈钢，金属等制版表面涂覆工艺。 MH
自动滴胶匀胶机
自动滴胶匀胶机/真空旋转涂层机 型号：MHY-29071MHY-29071产品简介：主要用于液体，胶体在材料表面薄膜的形成，适用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷等制版表面涂覆工艺。可在科研，教育，生产中应用。 MHY-29071主要特点：1可设定存储26个不同样片的旋转涂敷工艺过程。2每个涂敷工艺过程可以
匀胶机概述
匀胶机主要用于晶片涂光刻胶，有自动、手动和半自动三种工作方式。 送片盒中的晶片，自动送到承片台上，用真空吸附，在主轴电机的带动下旋转，转速100—9900转/分（±10转/分），起动加速度可调。每道程序的持续时间，转速、加速度、烘烤温度、烘烤时间、预烘时间等工艺参数均可通过编程控制。 匀胶机
匀胶机的特点
从其原理来说，匀胶机有以下两个特点。 （1）旋转速度 转速的快慢和控制精度直接关系到旋涂层的厚度控制和膜层均匀性。如果标示的转速和电机的实际转速误差很大，对于要求精密涂覆的科研人员来说是无法获得准确的实验数据的。转速控制方面有国际认定标准，如美国NIST标准等。 （2）真空吸附系统 真空
匀胶机的原理
匀胶机是在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上的设备，膜的厚度取决于匀胶机的转速和溶胶的黏度。 概述 该设备主要用于晶片涂光刻胶，有自动、手动和半自动三种工作方式。 送片盒中的晶片，自动送到承片台上，用真空吸附，在主轴电机的带动
匀胶机的选购技巧
怎么选购匀胶机，从其原理来说需要注意的几个细节： 旋转速度 转速的快慢和控制精度直接关系到旋涂层的厚度控制和膜层均匀性。如果标示的转速和电机的实际转速误差很大，对于要求精密涂覆的科研人员来说是无法获得准确的实验数据的。国产的某些匀胶机只能提供转速范围，并不能精确标定实时的转速。进口的匀胶机虽