等离子体分析飞行时间质谱将现身国际SIMS大会

　　分析测试百科网讯 在2015年9月14号星期一，日本堀场将在美国西雅图举办的“第二十届二次离子质谱国际会议”中作报告，报告的题目为《结合等离子体分析飞行时间质谱和飞行时间二次离子质谱在微电子中的应用》，此文由A. Tempez, J.-P. Barnes与Emmanuel Nolot, S. Legendre共同合作完成。

　　这个报告是由法国CEA-Leti和日本堀场科学部共同合作完成的。由飞行时间二次离子质谱和等离子体分析飞行时间质谱检测到的深度分析数据将会表征在微电子和纳米技术中使用到的材料，例如3D传感器中的磁性层、高级触点中的Pt掺杂的镍系硅化物、PTZ等等。这些例子都能展示出等离子体分析飞行时间质谱比二次离子质谱对于基质的依赖性要小很多，因为等离子体分析飞行时间质谱的离子喷溅和离子化是分开的两个过程。在报告中将会对两种技术在灵敏度、深度分辨率、污染物鉴别和定量方面进行比较。

　　等离子体飞行时间质谱PP-TOFMS是HORIBA Scientific (Jobin Yvon光谱技术) 在 2012年推出的一款产品，它诞生于欧盟项目“EMDPA”。它结合了等离子体喷溅过程的速度和飞行时间质谱的灵敏度的两个有点，能在纳米深度分辨率下对厚薄不同的薄膜进行体积和深度分析。与射频辉光放光谱仪(GD-OES)相比，它可以提供更高的灵敏度以及同位素和分子分布信息。与飞行时间二次离子质谱相比，等离子体分析飞行时间质谱能够分析更厚的膜，因为它有更快的喷溅速率。

　　 等离子体分析飞行时间质谱（PP-TOFMS）结合了一个等离子体源和一个飞行时间质谱分析器。是专门用来分析固体材料的纳米级别的导体或者是非导体层的深度分析。等离子体由无线频率辉光放电源产生，通常是在氩气产生氩离子和快速的中性粒子，然后将样品喷溅出。样品喷射出的中性粒子在等离子体中被激发和离子化。离子在正交提取TOFMS中传送和分离。因为不同喷溅时间的离子信号，原始数据会不断发生变化。定量的结果由深度转换的时间和信号校正获得，得出元素种类沿深度的分布。