真空设备检漏及探伤
中国电子科技集团公司第二研究所 作者：周社柱 随着技术的不断发展和更新，真空设备的种类和结构也越来越多样化，为确保生产的安全和高效性，结合设备的不同结构，对设备的检漏和探伤也提出不同的要求。分析传统的和最新的检测技术和手段，根据实际使用提出各自的使用范围和使用要点，以便生产和使用单位可以方便快捷的选择合适的检测手段和仪器。 随着科技的不断进步和人们对产品质量要求的提高，真空设备在各行业中的应用也得到了前所未有的推广。航空航天领域的模拟测试、核工业、空间离子碰撞试验、机械零部件的真空热处理、新型零件的真空焊接、真空冶金......阅读全文
真空设备检漏及探伤
中国电子科技集团公司第二研究所 作者：周社柱 随着技术的不断发展和更新，真空设备的种类和结构也越来越多样化，为确保生产的安全和高效性，结合设备的不同结构，对设备的检漏和探伤也提出不同的要求。分析传统的和最新的检测技
真空设备产品分类及特点
真空设备产品可分为五大类：(1)、真空获得设备--产生、改善或维持真空的装置。包括各种获得粗、低、中、高及超高的真空泵和真空机组。A、机械真空泵：旋片泵、往复泵、滑阀泵、罗茨泵、分子泵和液环泵等。B、蒸汽流真空泵：水蒸气喷射泵、油增压泵和油扩散泵等。C、气体捕集真空泵：钛溅射离子泵、低温泵、分子筛吸
各种真空设备及如何选用真空泵
真空设备产品可分为五大类： (1)、真空获得设备--产生、改善或维持真空的装置。包括各种获得粗、低、中、高及超高的真空泵和真空机组。A、机械真空泵：旋片泵、往复泵、滑阀泵、罗茨泵、分子泵和液环泵等。B、蒸汽流真空泵：水蒸汽喷射泵、油增压泵和油扩散泵等。C、气体捕集真空泵：钛溅射离子泵、低温泵、
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氦质谱检漏仪半导体设备及材料检漏应用
真空设备在半导体行业中的应用愈来愈广泛，例如真空镀膜设备（蒸发，溅射），干法雷设备，热处理设备（合金炉，退火炉），掺杂设备（离子注入机等）这些真空设备作为半导体技术发展不可或缺的条件必将起到越来越重要的作用。 真空设备在半导体行业中的应用愈来愈广泛，例如真空镀膜设备（蒸发，溅射），干法雷设备（
检漏仪的检漏原理及市场价格
因为在工业生产过程中，有一些操作条件需要采用真空环境，但是有些真空系统、容器或器件的器壁因材料本身缺陷或焊缝、机械连接处存在孔洞、裂纹或间隙等缺陷，外部大气通过这些缺陷进入系统内部，致使系统、容器或器件达不到预期的真空度，这种现象称为漏气。造成漏气的缺陷称为漏孔。漏孔尺寸微小、形状复杂，无法用几
氦质谱检漏仪常用检漏方法及标准
氦质谱检漏法是利用氦质谱检漏仪的氦分压力测量原理，实现被检件的氦泄漏量测量。当被检件密封面上存在漏孔时，示漏气体氦气及其它成分的气体均会从漏孔泄出，泄漏出来的气体进入氦质谱检漏仪后，由于氦质谱检漏仪的选择性识别能力，仅给出气体中的氦气分压力信号值。在获得氦气信号值的基础上，通过标准漏孔比对的
氦质谱检漏仪半导体设备及材料检漏应用
真空设备在半导体行业中的应用愈来愈广泛，例如真空镀膜设备（蒸发，溅射），干法雷设备（ICP,RIE,PECVD）,热处理设备（合金炉，退火炉）， 掺杂设备（离子注入机等）这些真空设备作为半导体技术发展不可或缺的条件必将起到越来越重要的作用。 半导体设备及材料需要检漏原因：1、半导体设备
无损探伤仪 着色渗透探伤结果及记录
无损探伤仪 着色渗透探伤机检测结果判断及记录1、根据显示迹痕的大小和色泽浓淡来判断缺陷的大小和严重程度。2、缺陷显示迹痕的长度与宽度之比不小于3的称为线状缺陷迹痕，长条缺陷将显示出线状迹痕。3、缺陷显示迹痕的长度与宽度之比小于3的称为圆状缺陷迹痕。例如气孔等近似圆形的缺陷，将显示出圆状迹痕。4、缺陷
深度揭秘氦质谱检漏技术——选择及逆流检漏仪
一、氦质谈检漏技术的发展从20世纪60年代开始，氦质谱检漏技术被广泛应用于航天、电子、原子能、制冷、电力、化工、汽车及食品等各个行业。特别是原子能、航天技术的发展，使氦质谱检漏技术得到了飞速的发展。从早期的喷吹法开始，到如今已有了氦罩法、吸枪法、真空室法、检漏盒法、真空室累积法、吸枪累积法、背压法及