电镜附件的原理及其应用——离子溅射仪／真空镀膜机
在利用扫描电镜分析非导电样品时，因为样品的不导电性，会在样品表面累积电离子，因此在成像过程中会产生大量的放电现象，严重影响图像质量。因此在观察非导体时一般都要事先用真空镀膜机或离子溅射仪在试样表面上蒸涂（沉积）一层重金属导电膜（我们一般是在试样表面蒸涂一层金膜），这样既可以消除试样荷电现象，又可以增加试样表面导电导热性，减少电子束造成的试样（如高分子及生物试样）损伤、提高二次电子发射率。利用离子溅射仪制备试样比真空镀膜机制备表面导电膜能收到更好的效果。......阅读全文
电镜附件的原理及其应用——离子溅射仪/真空镀膜机
在利用扫描电镜分析非导电样品时，因为样品的不导电性，会在样品表面累积电离子，因此在成像过程中会产生大量的放电现象，严重影响图像质量。因此在观察非导体时一般都要事先用真空镀膜机或离子溅射仪在试样表面上蒸涂（沉积）一层重金属导电膜（我们一般是在试样表面蒸涂一层金膜），这样既可以消除试样荷电现象，又可以增
电镜附件的原理及其应用——EBSD附件
背散射电子衍射花样与所测单晶体的晶体结构有关,利用此种关联将其用作材料的结构研究方面变形成了背散射电子衍射分析技术,这就是我们通常说的EBSD(电子背散射衍射)。EBSD主要可做单晶体的物相分析,同时提供花样质量、置信度指数、彩色晶粒图,可做单晶体的空间位向测定、两颗单晶体之间夹角的测定、可做特选取
电镜附件的原理及其应用——波谱仪
波谱仪原理及应用波谱仪(即X射线波长色散谱仪,简称WDS)，用作微区成分分析。成分分析的原理可用λ=(d/R)L公式表示。λ是电子束激发试样时产生的X射线波长,跟元素有关;d是分光晶体的面间距,为已知数;R是波谱仪聚焦园的半径,为已知数;L是X射线发射源与分光晶体之间的距离。对于不同的L则有不同的X
电镜附件的原理及其应用——能谱仪
能谱仪(即X射线能量色散谱仪,简称EDS)通常是指X射线能谱仪。能谱仪首先是在扫描电镜和电子探针分析仪器上得到应用,其优点是可以分析微小区域(几个微米)的成分,并且可以不用标样。能谱仪收集谱线时一次即可得到可测的全部元素,因而分析速度快,另外,在扫描电镜所观察的微观领域中,一般并不要求所测成分具有很
AJA－真空互联磁控溅射镀膜机共享应用
仪器名称：真空互联-磁控溅射镀膜机仪器编号：20004165产地：美国生产厂家：AJA型号：ATC-2200-UHV SPUTTER SYSTEM出厂日期：购置日期：2020-06-05项目名称计价单位费用类别价格备注材料溅射元/小时自主上机机时费460.0Au等贵金属加收100元/10nm所属单位
电镜附件的原理及其应用——动态拉伸台
动态拉伸装置配有内部马达驱动器、旋转译码器、线性位移传感器,由计算机进行控制和数据采集,配合视频数据采集系统,可实现动态观察和记录。可从材料表面观察在动态拉伸条件下材料的滑移、塑性形变、起裂、裂纹扩展(路径和方向)直至断裂的全过程等。拉伸台与扫描电镜结合：在进行材料拉、压、弯以及疲劳实验性能研究与分
电镜附件的原理及其应用——高温样品台
高温台配有专用陶瓷GSED(气体二次电子探头),可在环境模式下,在高达1500℃温度下正常观察样品的二次电子像。加热温度范围从室温到1500℃,升温速度每分钟1～300℃。利用高温样品台,可以观察材料在加热过程中组织转变的过程,研究不同材料在热状态下转变的差异。在材料工艺性能研究方面,可以直接观察组
磁控溅射镀膜机共享应用
仪器名称：磁控溅射镀膜机仪器编号：13001328产地：中国生产厂家：创世威纳科技公司型号：MSP-3200T出厂日期：201301购置日期：201301所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：一楼平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：魏治乾（010-62781090,19
离子溅射仪溅射工作原理简介
直流冷阴极二极管式，靶材处于常温，加负高压1-3kv，阳极接地。当接通高压，阴极发射电子，电子能量增加到1-3kev，轰击低真空中（3-10pA)的气体，使其电离，激发出的电子在电场中被加速，继续轰击气体，产生联级电离，形成等离子体。离子以1-3kev的能量轰击阴极靶，当其能量高于靶材原子的结合
磁控溅射镀膜机共享
仪器名称：磁控溅射镀膜机仪器编号：13001328产地：中国生产厂家：创世威纳科技公司型号：MSP-3200T出厂日期：201301购置日期：201301所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：一楼平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：魏治乾（010-62781090,19
真空镀膜机的结构原理
一、电控柜的操作 1. 开水泵、气源 2. 开总电源 3. 开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。 4. 开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。 5. 观察涡轮分子泵读数到达250以后，关
电子扫描显微镜蒸金试样制备
蒸金 利用扫描电镜观察高分子材料（塑料、纤维和橡胶）、陶瓷、玻璃及木材、羊毛等不导电或导电性很差的非金属材料时，一般都要事先用真空镀膜机或离子溅射仪在试样表面上蒸涂（沉积）一层重金属导电膜（我们一般是在试样表面蒸涂一层金膜），这样既可以消除试样荷电现象，又可以增加试样表面导电导热性，减少电子束
小型离子溅射仪可以用来溅射铜吗
小型的离子溅射仪分为低真空离子溅射和高真空离子溅射，根据原理又分为高电压直流、低电压磁控和离子束三种原理，目前市面上的离子溅射大部分是可以满足您的需求，你可以查看上海禾早生产的离子溅射仪。
平板仪及其附件
按其照准仪和基座的结构不同可分为：①大平板仪，是平板仪测量的主要仪器，由平板、照准仪、基座以及方框罗盘、对点器和独立水准器等附件所组成；②小平板仪，主要用于碎部测图，由小平板、测斜照准仪、基座以及方框罗盘、对点器和独立水准器等附件所组成，可单独使用，但通常与 经纬仪配合而仅用于瞄画 方向线，单独
真空设备产品分类及特点
真空设备产品可分为五大类：(1)、真空获得设备--产生、改善或维持真空的装置。包括各种获得粗、低、中、高及超高的真空泵和真空机组。A、机械真空泵：旋片泵、往复泵、滑阀泵、罗茨泵、分子泵和液环泵等。B、蒸汽流真空泵：水蒸气喷射泵、油增压泵和油扩散泵等。C、气体捕集真空泵：钛溅射离子泵、低温泵、分子筛吸
清华大学仪器共享平台磁控溅射镀膜机
仪器名称：磁控溅射镀膜机仪器编号：13001328产地：中国生产厂家：创世威纳科技公司型号：MSP-3200T出厂日期：201301购置日期：201301所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：一楼平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：魏治乾（010-62781090,19
循环式真空泵被应用于哪些领域
循环式真空泵广泛应用于石油、化工、冶金、医药、生化、物性，测试及化学分析等研究部门、高等院校、工厂实验室及计量质检部门。根据槽开口尺寸的不同，可在浴槽内进行恒温实验，亦可通过软管与其他设备相连接，与恒温源配套使用。内循环：通过泵对槽内液体介质的循环吞吐，增加槽内温度的均匀性，减少温度波动。外循环：
阴极发光仪和离子溅射仪原理有什么区别
阴极发光仪和离子溅射仪原理有什么区别主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面, 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加
真空镀膜机原理和各部件分析
一、真空主体——真空腔根据加工产品要求的各异，真空腔的大小也不一样，目前应用最多的有直径1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等，腔体由不锈钢" target=_blank>不锈钢材料制作，要求不生锈、坚实等，真空腔各部分有连接阀，用来连接各抽气泵浦。 二、辅助抽气系统：排气系统为镀膜机真空系
超高真空多靶磁控溅射镀膜仪
超高真空多靶磁控溅射镀膜仪是一种用于物理学领域的物理性能测试仪器，于2010年2月21日启用。 技术指标 双室磁控溅射系统，极限压力：主溅射室，6.67*10-6Pa，2、永磁靶5套，三个直流电源，两个射频电源，靶材直径60mm；3、6个样品工位，尺寸直径30mm，基片加热最高600度，退火
离子溅射仪操作流程相关介绍
1、一般工作距离可调，距离越近，溅射速度越快，但热损伤会增加。 2、离子流的大小通过控制真空压力实现，真空度越低，I越大，溅射速度越快，原子结晶晶粒越粗，电子轰击样品（阳极）产生的热量越高；真空度越高,I 越小，溅射速度越慢，原子结晶晶粒越细小，电子轰击样品产生的热量小。 3、加速电压为固定
解析离子溅射仪常见故障
故障现象：使用一段时间后，溅射电流变小 解决方法：对靶材有无变色、破裂和油污等现进行检查。前两者对靶材进行更换，后者被油蒸汽污染，通过无水乙醇进行清洁，等到干了以后才能够抽真空。 故障现象：在使用一段时间以后，有着过低的真空。 解决方法：对溅射室中或管道内是否有油进行检查，能够使用汽油进行
各种真空设备及如何选用真空泵
真空设备产品可分为五大类： (1)、真空获得设备--产生、改善或维持真空的装置。包括各种获得粗、低、中、高及超高的真空泵和真空机组。A、机械真空泵：旋片泵、往复泵、滑阀泵、罗茨泵、分子泵和液环泵等。B、蒸汽流真空泵：水蒸汽喷射泵、油增压泵和油扩散泵等。C、气体捕集真空泵：钛溅射离子泵、低温泵、
各种真空设备及如何选用真空泵
真空设备产品可分为五大类： (1)、真空获得设备--产生、改善或维持真空的装置。包括各种获得粗、低、中、高及超高的真空泵和真空机组。A、机械真空泵：旋片泵、往复泵、滑阀泵、罗茨泵、分子泵和液环泵等。B、蒸汽流真空泵：水蒸汽喷射泵、油增压泵和油扩散泵等。C、气体捕集真空泵：钛溅射离子泵、低温泵、
分体式冷水机主要特点等相关介绍
分体式冷水机是风冷冷水机的一种，他的制冷原理和一体式冷水机完全相同。 主要特点 分体式冷水机是分为室内机和室外机两大部分。室内机主要包括蒸发器、控制器。室外机主要包括压缩机、冷凝器、风扇。因此热量全部排到室外，且室内机体积小，噪音低。 主要应用的设备 扫描电镜、原子吸收、ICP、激光器、
磁致溅射仪的原理简介
溅射法的原理是在惰性气体或者活性气体中在阳极和阴极蒸发材料间加上几百伏的直流电压，使之产生辉光放电，放电中的离子碰撞到阴极的蒸发材料靶上，靶材的原子就会由其表面蒸发出来，蒸发原子被惰性气体冷却而凝结或与活性气体反应而形成纳米颗粒。溅射是一个复杂的过程。溅射过程是建立在气体辉光放电基础上的。当两电
物理气相沉积的详述
(一)真空蒸镀原理(1) 真空蒸镀是在真空条件下，将镀料加热并蒸发，使大量的原子、分子气化并离开液体镀料或离开固体镀料表面(升华)。(2)气态的原子、分子在真空中经过很少的碰撞迁移到基体。(3)镀料原子、分子沉积在基体表面形成薄膜。(二)蒸发源将镀料加热到蒸发温度并使之气化，这种加热装置称为蒸发源。
场发射扫描电子显微镜的指标信息和附件信息
指标信息 二次电子图像（SEI） 分辨率1.5nm 背散射电子图像（BEI) 分辨率3.0nm X射线能谱仪（EDS） 分辨率128ev 分析范围B5～U92 电子背散射衍射（EBSP）空间分辨率 0.5μm 采集时间 20ms～2s/每菊池图 数字图像采集系统 分辨率512×384p
天美公司在中科院遗传所举办电镜应用讲座
中国科学院遗传与发育生物学研究所(简称遗传发育所)是植物基因研究、分子农业生物学和发育生物学方面的国内权威研究机构。在对各类植物叶片、孢子等生物样品进行微观观察的实验中，扫描电镜及其相关制样设备是不可或缺的科学仪器。遗传发育所在2005年购入日立S-3000N钨灯丝扫描
真空镀膜机清洗的工艺要求
真空工艺进行前应清洗真空材料，从工件或系统材料表面清除污染物；真空零部件的表面清洗处理也是非常有必要的，因为由污染物所造成的气体、蒸气源不仅会使真空系统不能获得所要求的真空度。而且由于污染物的存在，同时也会影响真空部件连接处的强度和密封性能。 污染物可以定义为“任何一种无用的物质或能量”，根据