不同温度下制备sio2的xrd衍射峰的不同
二氧化硅的化学式为SiO2。二氧化硅有晶态和无定形两种形态。晶态二氧化硅的熔点1723℃，沸点2230℃，不溶于水。除氟气和氢氟酸外，二氧化硅跟卤素、卤化氢和无机酸均不反应，但能溶于热的浓碱、熔融的强碱或碳酸钠中。弱碱、不同温度下合成的样品的XRD衍射结果#可以看出在室温下合成的样品在1°-3°（2θ）之间有一较强的衍射峰 这是对应材料的特征（100）峰，衍射峰的强度很高，说明材料的介孔结构长程有序性较好，另外，在3°~6°间出现3个弱衍射峰。随着温度的升高，材料的衍射峰逐渐变弱，在40摄氏度或50摄氏度时介孔材料的衍射峰只有三个衍射峰，衍射峰与室温下得到的介孔二氧化硅的特征峰相比 见图中b，c没有高有序衍射峰的存在，说明材料的介孔结构不具有长程有序性，但在高温65摄氏度时，在2.30左右出现了100特征峰图1d但并不明显。这与介孔结构中存但由于颗粒均在纳米级范围，相比较40摄氏度或50摄氏度的棒状颗粒来说，有序性好的多......阅读全文
不同温度下制备sio2的xrd衍射峰的不同
二氧化硅的化学式为SiO2。二氧化硅有晶态和无定形两种形态。晶态二氧化硅的熔点1723℃，沸点2230℃，不溶于水。除氟气和氢氟酸外，二氧化硅跟卤素、卤化氢和无机酸均不反应，但能溶于热的浓碱、熔融的强碱或碳酸钠中。弱碱、不同温度下合成的样品的XRD衍射结果#可以看出在室温下合成的样品在1°-3°
无定型二氧化硅或者晶体SiO2的拉曼峰
无定形二氧化硅 968.3， 519.9， 301.9晶型二氧化硅 682， 461， 407， 260
二氧化硅的红外光谱和XRD谱图的解析
波数：3441.90 cm-1处出现的较宽的吸收峰，对应于-OH基的反对称伸缩振动和对称伸缩振动。1629.68(HOH).1103.05(SiO) cm-1处出现的强吸收谱带归属于Si-O-Si的反对称伸缩振动吸收。970.27(??????), 因为此区域处于指纹区，此峰不必归属；何况还可能存在
关于二氧化硅的物质简介
二氧化硅的化学式为SiO2。二氧化硅有晶态和无定形两种形态。自然界中存在的二氧化硅如石英、石英砂等统称硅石。纯石英为无色晶体，大而透明的棱柱状石英晶体叫做水晶，含微量杂质而呈紫色的叫紫水晶，浅黄、金黄和褐色的称烟水晶。玉髓、玛瑙和碧玉都是含有杂质的有色石英晶体。沙子是混有杂质的石英细粒。蛋白石、
关于二氧化硅的基本信息介绍
二氧化硅，是一种无机化合物，化学式为SiO2，硅原子和氧原子长程有序排列形成晶态二氧化硅，短程有序或长程无序排列形成非晶态二氧化硅。 二氧化硅晶体中，硅原子位于正四面体的中心，四个氧原子位于正四面体的四个顶角上，许多个这样的四面体又通过顶角的氧原子相连，每个氧原子为两个四面体共有，即每个氧原子
概述纳米二氧化硅的应用特性
1、用纳米二氧化硅配制出来的胶体电解液，凝胶能力强，粘度适合的，形成的胶体电解液柔软，触变性好，胶体的三维网络结构适中的，电阻小，放电电流大，电容量高，且不会出现水化分层，还可以大大增加胶体的循环寿命。 2、在隔板中添加纳米二氧化硅，可以增大孔径，增加胶体电解液总量。有效防止电解液分层，减小腐
兰州化物所二氧化硅交联形状记忆聚合物研究获新进展
中科院兰州化学物理研究所先进润滑与防护材料研发中心在二氧化硅交联形状记忆聚合物(SMP)研究方面取得新进展。 研究人员利用聚己内酯(PCL)作为软段，合成了具有良好机械强度和形状记忆性能的二氧化硅交联网络聚合物SiO2–SMP。SiO2–SMP 制备过程如下：（1）利用自制的单
硅酸根分析仪的应用情况
硅酸根分析仪是分析水中可溶性二氧化硅和硅酸盐含量的仪器，目前普遍采用钼蓝法测量水中微量硅的含量。由于钼蓝法是先将水中的硅化物转变成可溶性正硅酸(H4SiO4),通过分析水中硅酸根含量进行测量的，所以将其称为硅酸根分析仪。 水中微量硅的含量，通常换算成每立升水中所含二氧化硅(SiO2)的微克数来
纳米二氧化硅在农业及食品领域的应用
近来，发达国家开发了纳米二氧化硅的一些新应用领域。如在农业中，利用纳米二氧化硅制农业种子处理剂，可使蔬菜(甘蓝、西红柿、黄、棉花 、玉米 、小麦提 髙产量，提前成熟期。如纳米sio2可应用除草剂和杀虫剂中，若在粒状的杀虫刺配方中，加人少量纳米二氧化硅会有效地控制和防止有害物产生。在食品行业中，纳
纳米二氧化硅在抗菌剂领域、催化领域的应用介绍
纳米二氧化硅具有生理惰性、高吸附性，在杀菌剂的制备中常用作载体，当纳米sio2作载体时，可吸附抗菌离子达到、抗菌抗菌的目的在报道可用于冰箱外壳、电脑键盘等的制造。 纳米sio2比 表面积大 、孔隙率高 、表面活性中心多，在催化剂和催化剂载体方而具有潜在的应用价值。 以纳米二氧化硅为基本原料，采
纳米二氧化硅在涂料领域的应用
纳米二氧化硅具有三维网状结构，拥有庞大的比表面积，表现出极大的活性，能在涂料干燥时形成网状结构，同时增加了涂料的强度和光洁度，而且提高了颜料的悬浮性，能保持涂料的颜色长期不退 色。在建筑内外墙涂料中，若添加纳米二氧化硅，可明显改善涂料的开罐效果，涂料不分层，具有触变性、防流挂 、施工性能良好，尤
关于元素硅的实验室制备方法介绍
实验室里可用镁粉在赤热下还原粉状二氧化硅，用稀酸洗去生成的氧化镁和镁粉，再用氢氟酸洗去未作用的二氧化硅，即得单质硅。这种方法制得的都是不够纯净的无定形硅，为棕黑色粉末。工业上生产硅是在电弧炉中还原硅石（SiO2含量大于99%）。使用的还原剂为石油焦和木炭等。使用直流电弧炉时，能全部用石油焦代替木
纳米二氧化硅在润滑油添加剂领域的应用介绍
在润滑油添加剂领域纳米二氧化硅微粒表面含有大量的羟基和不饱键，可以在摩擦副表而形成牢固的化学吸附膜，而保护金属摩擦表面，显著改善润滑油的摩擦性能 。润滑油的承载能力在加入纳sio2后得到很大提高，当加人量为1 .5时，PB值增大了近1倍，sio2纳米微粒作为润滑油添加剂表现出优异的抗磨减摩性能，
广角XRD和小角XRD的区别
XRD是X射线衍射仪的简称。其基本原理是:当X射线照射所测物质（晶体），相应晶面会产生衍射强度。随着发射X射线的转轴移动，不同角度的不同晶面会被完全扫描出来。从而根据布拉格方程2d sinθ=nλ，呈现出图谱。广角XRD一般指3°~80°，甚至是更高的度数，一般用来判断某种材料的物相，即是什么物质。
气相二氧化硅在化学机械平坦CMP设备中的应用
CMP（Chemical Mechanical Polishing，化学机械抛光）是机械削磨和化学腐蚀的组合技术，它借助超微粒子的研磨作用以及浆料的化学腐蚀作用在被研磨的介质表面（如单晶硅片、集成电路上氧化物薄膜、金属薄膜等）上形成光洁的平面，它克服了传统的化学抛光所具有的抛光速度慢、容易导致抛
视频光端机的介质特点
监控光端机传输的介质是光纤，那么为什么要选择通过光纤来传输呢？光纤的主要组成物质是二氧化硅（SiO2），这种矿物质在整个地球的矿物质中所占的比例比较大，通常在石头、砂粒中都可以提取到。由二氧化硅（SiO2）组成的光纤脆如玻璃，细若发丝。由它的内部组成来看，光纤分为单模光纤和多模光纤，单模光纤的芯
我国学者揭示五氧化二钽低温相晶格结构
近期，固体所物质计算科学研究室杨勇研究员在五氧化二钽晶格结构研究方面取得重要进展，相关结果发表在Physical Review Materials (Phys. Rev. Materials, 2, 034602 (2018))上。图1. (a)-(e) Ta2O5的几个典型的已知结构相；(f)
合肥研究院在五氧化二钽晶格结构研究中取得进展
近期，中国科学院合肥物质科学研究院固体物理研究所物质计算科学研究室研究员杨勇在五氧化二钽晶格结构研究方面取得新进展，相关结果发表在Physical Review Materials (Phys. Rev. Materials, 2, 034602 (2018))上。 五氧化二钽 (Ta2O5)
五氧化二钽结构
近期，中国科学院合肥物质科学研究院固体物理研究所物质计算科学研究室研究员杨勇在五氧化二钽晶格结构研究方面取得新进展，相关结果发表在 Physical Review Materials (Phys. Rev. Materials, 2, 034602 (2018))上。 五氧化二钽 (Ta2O5
xrd原理
XRD的基本原理：X射线是原子内层电子在高速运动电子的轰击下跃迁而产生的光辐射，主要有连续X射线和特征X射线两种。XRD 即X-ray diffraction 的缩写，X射线衍射，通过对材料进行X射线衍射，分析其衍射图谱，获得材料的成分、材料内部原子或分子的结构或形态等信息的研究手段。
xrd原理
XRD的基本原理：X射线是原子内层电子在高速运动电子的轰击下跃迁而产生的光辐射，主要有连续X射线和特征X射线两种。XRD 即X-ray diffraction 的缩写，X射线衍射，通过对材料进行X射线衍射，分析其衍射图谱，获得材料的成分、材料内部原子或分子的结构或形态等信息的研究手段。
xrd原理
当一束单色X射线入射到晶体时，由于晶体是由原子规则排列成的晶胞组成，这些规则排列的原子间距离与入射X射线波长有相同数量级，故由不同原子散射的X射线相互干涉，在某些特殊方向上产生强X射线衍射，衍射线在空间分布的方位和强度，与晶体结构密切相关。这就是X射线衍射的基本原理。根据其原理，某晶体的衍射花样的特
xrd原理
XRD的基本原理：X射线是原子内层电子在高速运动电子的轰击下跃迁而产生的光辐射，主要有连续X射线和特征X射线两种。XRD 即X-ray diffraction 的缩写，X射线衍射，通过对材料进行X射线衍射，分析其衍射图谱，获得材料的成分、材料内部原子或分子的结构或形态等信息的研究手段。
XRD原理
X射线荧光衍射：利用初级X射线光子或其他微观离子激发待测物质中的原子，使之产生荧光(次级X射线)而进行物质成分分析和化学态研究的方法。按激发、色散和探测方法的不同，分为X射线光谱法(波长色散)和X射线能谱法(能量色散)。当原子受到X射线光子(原级X射线)或其他微观粒子的激发使原子内层电子电离而出现空
XRD－原理
X射线荧光衍射：利用初级X射线光子或其他微观离子激发待测物质中的原子，使之产生荧光(次级X射线)而进行物质成分分析和化学态研究的方法。按激发、色散和探测方法的不同，分为X射线光谱法(波长色散)和X射线能谱法(能量色散)。当原子受到X射线光子(原级X射线)或其他微观粒子的激发使原子内层电子电离而出现空
xrd原理
XRD的基本原理：X射线是原子内层电子在高速运动电子的轰击下跃迁而产生的光辐射，主要有连续X射线和特征X射线两种。XRD 即X-ray diffraction 的缩写，X射线衍射，通过对材料进行X射线衍射，分析其衍射图谱，获得材料的成分、材料内部原子或分子的结构或形态等信息的研究手段。需知：1、晶态
XRD－原理
X射线荧光衍射：利用初级X射线光子或其他微观离子激发待测物质中的原子，使之产生荧光(次级X射线)而进行物质成分分析和化学态研究的方法。按激发、色散和探测方法的不同，分为X射线光谱法(波长色散)和X射线能谱法(能量色散)。当原子受到X射线光子(原级X射线)或其他微观粒子的激发使原子内层电子电离而出现空
XRD原理
X射线荧光衍射：利用初级X射线光子或其他微观离子激发待测物质中的原子，使之产生荧光(次级X射线)而进行物质成分分析和化学态研究的方法。按激发、色散和探测方法的不同，分为X射线光谱法(波长色散)和X射线能谱法(能量色散)。当原子受到X射线光子(原级X射线)或其他微观粒子的激发使原子内层电子电离而出现空
XRD原理
X射线荧光衍射：利用初级X射线光子或其他微观离子激发待测物质中的原子，使之产生荧光(次级X射线)而进行物质成分分析和化学态研究的方法。按激发、色散和探测方法的不同，分为X射线光谱法(波长色散)和X射线能谱法(能量色散)。当原子受到X射线光子(原级X射线)或其他微观粒子的激发使原子内层电子电离而出现空
XRD原理
X射线荧光衍射：利用初级X射线光子或其他微观离子激发待测物质中的原子，使之产生荧光(次级X射线)而进行物质成分分析和化学态研究的方法。按激发、色散和探测方法的不同，分为X射线光谱法(波长色散)和X射线能谱法(能量色散)。当原子受到X射线光子(原级X射线)或其他微观粒子的激发使原子内层电子电离而出现空