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药品中潜在致突变性杂质的痕量水平

摘要:本应用简报重点介绍了一种分析方法,用于精确定量两种潜在致突变性杂质 3-氨基吡啶和异烟酰胺,这两种杂质可由达伐吡啶中的活性药物成分 (API) 4-氨ji吡啶形成。Agilent Ultivo LC/TQ 具有混合模式采集功能,通过该功能可以同时采集样品的定量(SIM 和 MRM)及定性信息(全扫描和产物离子扫描)。混合模式的工作原理是将扫描功能与目标分析物的 SIM 或 MRM 整合到同一时间段内。实验表明该方法具有优异的灵敏度和精度,潜在致突变性杂质的定量限远低于法规要求。 前言:在 API 的生产过程中,具有致突变性的原料或副反应产物可能会存在于生产批次中。这些致突变性杂质可能会被引入到最终产品中,因此,必须对生产批次中的潜在致突变性杂质 (PMI) 进行筛查。在本分析方法中,我们分析了达伐吡啶中的 API,即 4-氨ji吡啶产生的 3-氨基吡啶和异烟酰胺。达伐吡啶的标准剂量为 2......阅读全文

药品中潜在致突变性杂质的痕量水平

  摘要:本应用简报重点介绍了一种分析方法,用于精确定量两种潜在致突变性杂质 3-氨基吡啶和异烟酰胺,这两种杂质可由达伐吡啶中的活性药物成分 (API) 4-氨ji吡啶形成。Agilent Ultivo LC/TQ 具有混合模式采集功能,通过该功能可以同时采集样品的定量(SIM 和 MRM)及定性信

药品中潜在致突变性杂质的痕量水平

  摘要:本应用简报重点介绍了一种分析方法,用于精确定量两种潜在致突变性杂质 3-氨基吡啶和异烟酰胺,这两种杂质可由达伐吡啶中的活性药物成分 (API) 4-氨ji吡啶形成。Agilent Ultivo LC/TQ 具有混合模式采集功能,通过该功能可以同时采集样品的定量(SIM 和 MRM)及定性信

药品中潜在致突变性杂质的痕量水平

摘要:本应用简报重点介绍了一种分析方法,用于精确定量两种潜在致突变性杂质 3-氨基吡啶和异烟酰胺,这两种杂质可由达伐吡啶中的活性药物成分 (API) 4-氨ji吡啶形成。Agilent Ultivo LC/TQ 具有混合模式采集功能,通过该功能可以同时采集样品的定量(SIM 和 M

9306遗传毒性杂质控制指导原则解读

  2020版《中国药典》已正式发布,在四部中新增“9306遗传毒性杂质控制指导原则”(以下简称9306指导原则),以适应当前国外内法规(如ICH M7)和化学药品遗传毒性杂质控制的实际需要。   概述   遗传毒性杂质(genotoxic impurities, GTIs),又称基因毒性杂

9306遗传毒性杂质控制指导原则解读

 截图来源:2020版《中国药典》 2020版《中国药典》已正式发布,在四部中新增“9306遗传毒性杂质控制指导原则”(以下简称9306指导原则),以适应当前国外内法规(如ICH M7)和化学药品遗传毒性杂质控制的实际需要。 概述遗传毒性杂质(genotoxic &nb

药品杂质有哪些?

药品杂质通常分为:有机杂质、无机杂质、残留溶剂。有机杂质可在药品的生产或贮存中引入,也可由药物与辅料或包装结构的相互作用产生,这些杂质可能是已鉴定或者未鉴定的、挥发性的或非挥发性的,包括起始物、副产物、中间体、降解产物、试剂、配位体和催化剂;其中化学结构与活性成分类似或具渊源关系的有机杂质,通常称为

头孢地尼药品中杂质快速自动鉴定方法

简介头孢地尼(Cefdinir)属第3代头孢,日本藤泽药品工业公司原研,1991年首次在日本上市,商品名Cefzon。1997年12月在美国上市,2001年国产头孢地尼获准在中国上市。该品具有抗菌谱广、抗菌作用强、临床疗效高、毒性低、过敏反应少、方便使用等特点。近年来,国内已准备开发其仿制药。但如今

ICP-MS法测定石英砂中十四种痕量杂质元素

  石英砂特别是SiO2含量99.99%以上的高纯石英砂,广泛用于半导体技术、原子能、光纤通讯等高科技领域。其杂质对产品质量影响极大,故其痕量分析技术成为近年来的热点。   石英砂痕量元素的传统分析方法以原子吸收火焰法(FAS)和石墨炉法(GAS)为主[1],均为单元素测定,FAS法精密度

药物中杂质的种类

药物中的杂质按来源可分为一般杂质和特殊杂质。一般杂质是指在自然界中分布广泛在多数药物的生产和贮藏过程中容易引入的杂质,如酸、碱、水分、氯化物、硫酸盐、砷盐、重金属等。特殊杂质是指某些个别药物,在特定的生产和贮藏过程中引入的杂质。如阿司匹林中的游离水杨酸,是因为乙酰化反应不完全而引入的。杂质按其毒性可

新药典观察 | 9306遗传毒性杂质控制指导原则解读

  截图来源:2020版《中国药典》  2020版《中国药典》已正式发布,在四部中新增“9306遗传毒性杂质控制指导原则”(以下简称9306指导原则),以适应当前国外内法规(如ICH M7)和化学药品遗传毒性杂质控制的实际需要。  概述  遗传毒性杂质(genotoxic impurities, G