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金属多靶磁控溅射机

金属多靶磁控溅射机是一种用于电子与通信技术领域的工艺试验仪器,于2014年1月1日启用。 1)真空系统:复合分子泵+直联旋片无油机械泵抽真空系统;真空极限:优于5.0×10E-5Pa ;抽速:从大气开始抽气,溅射室25分钟可达到10E-4Pa;系统漏率≤ 5×10-7PaL/s,系统停泵关机12小时后真空度≤5Pa;2)基片台:可镀4基片,4样片内膜厚200nm的不均匀度≤±5%;样品基台可加热,室温~500℃,控温精度±1oC;3)溅射靶及电源:直径小于/等于3英寸,标配3个材料靶加一盲靶;各靶兼容直流溅射/中频溅射/射频溅射;靶之间相互不干扰/污染; 电源配置:配有2台数字式500w直流溅射电源和1台500w全自动匹配射频溅射电源。......阅读全文

金属多靶磁控溅射机

  金属多靶磁控溅射机是一种用于电子与通信技术领域的工艺试验仪器,于2014年1月1日启用。   1)真空系统:复合分子泵+直联旋片无油机械泵抽真空系统;真空极限:优于5.0×10E-5Pa ;抽速:从大气开始抽气,溅射室25分钟可达到10E-4Pa;系统漏率≤ 5×10-7PaL/s,系统停泵

超高真空多靶磁控溅射镀膜仪

  超高真空多靶磁控溅射镀膜仪是一种用于物理学领域的物理性能测试仪器,于2010年2月21日启用。   技术指标   双室磁控溅射系统,极限压力:主溅射室,6.67*10-6Pa,2、永磁靶5套,三个直流电源,两个射频电源,靶材直径60mm;3、6个样品工位,尺寸直径30mm,基片加热最高60

铁金属检测机

铁金属检测机 产品型号: 产品品牌:梅特勒-托利多 产品价格:电询    该系列产品主要针对食品行业,对金属膜包装产品进行铁杂质的检测,如方便食品、糖果、酸奶、牛奶和休闲食品等。    独特的产品信号取消功能,能够记录和屏蔽铝膜等金属膜包装材料的信号,提高金属检测性能。    检测头满

金属探测机简介

  通常金属探测机由两部分组成,即金属探测机与自动剔除装置,其中检测器为核心部分。检测器内部分布着三组线圈,即中央发射线圈和两个对等的接收线圈,通过中间的发射线圈所连接的振荡器来产生高频可变磁场,空闲状态时两侧接收线圈的感应电压在磁场未受干扰前相互抵消而达到平衡状态。

等离子体光谱诊断解决方案

薄膜材料因其在多个方面的性能,使得应用十分广泛,薄膜的制备有多种方法,磁控溅射法是当今制备薄膜比较常用的一种方法。而用磁控溅射法制备出高质量薄膜的关键是薄膜生长过程中的工艺参数选择与稳定性控制。为此在薄膜生长中的工艺参数对薄膜的各种性能影响方面做了 探讨与研究,如采用真空溅射镀膜技术在镍锌铁氧基片

简介磁致溅射仪的制备优点

  不仅可以得到很高的溅射速率,而且在溅射金属时还可以避免二次电子轰击而使基板保持接近冷态,这对单晶和塑料基板具有重要的意义。磁控溅射可以用DC和RF放电工作,故能制备金属膜和介质膜。但是它的缺点是:不能实现强磁性材料的低温高速溅射,因为几乎所有的磁通都通过磁性靶子,所以在靶面附近不能外加强磁场;

等离子体光谱诊断

薄膜材料因其在多个方面的优异性能,使得应用十分广泛,薄膜的制备有多种方法,磁控溅射法是当今制备薄膜比较常用的一种方法。而用磁控溅射法制备出高质量薄膜的关键是薄膜生长过程中的工艺参数选择与稳定性控制。为此在薄膜生长中的工艺参数对薄膜的各种性能影响方面做了大量探讨与研究,如采用真空溅射镀膜技术在镍锌铁

新型纳米RNA抗癌药物,多靶点击毁癌中之王

  一种新型纳米颗粒能选择性地向肿瘤组织投递遗传物质,对周围健康组织没有副作用。   image.png   特拉维夫大学的一项研究指出,一个已知的癌基因(oncogene,促进癌症发展)和一个抑癌microRNA的表达之间存在负相关性,共同影响胰腺癌患者的生存率。因此科学家们发明了一

矩形孔径金属检测机

概述 梅特勒-托利多R系列矩形金属检测机可集成到传输带等产品输送系统中。 非常适合检测工艺中或生产线最后的散料、散装或包装产品。 广泛的产品范围可确保提供满足各种应用需求的解决方案。 用于实现最大合规性的高级金属检测 梅特勒-托利多金属检测机使用复杂的技术来提供高级金属检测解决方案,

立式应用金属检测机

概述 梅特勒-托利多T和ST系列立式金属检测机可集成到立式制袋、填充和封口(VFFS)工艺中以检测自由落体产品。 这些立式应用金属检测解决方案尤其适合使用金属薄膜包装材料的应用。 优化的系统性能 为了最大程度减少由于金属污染物导致的产品召回风险,最新的梅特勒-托利多T和ST系列立式金